Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/2349
Полная запись метаданных
Поле DCЗначениеЯзык
dc.contributor.authorМокроусов, Г. М.ru
dc.contributor.authorЗарубина, Оксана Николаевнаru
dc.date.accessioned2015-11-20T02:52:00Z-
dc.date.available2015-11-20T02:52:00Z-
dc.date.issued2008-
dc.identifier.citationМокроусов Г. М. Формирование поверхностного и приповерхностного слоев на полупроводниках типа AIIIBV / Г. М. Мокроусов, О. Н. Зарубина // Известия Томского политехнического университета [Известия ТПУ]. — 2008. — Т. 313, № 3: Химия. Физика. — [С. 25-30].ru
dc.identifier.issn1684-8519-
dc.identifier.urihttp://earchive.tpu.ru/handle/11683/2349-
dc.description.abstractНа примере арсенида галлия рассмотрен возможный механизм формирования, состав и строение поверхностного фазового и приповерхностного нарушенного кристаллического слоев полупроводниковых соединений в зависимости от величины электродного потенциала и pH водной системы. На основе учета степени отклонения от стехиометрического состава (области гомогенности) соединения и диффузионных представлений впервые проведена оценка толщины приповерхностного слоя в связи с условиями химической обработки материала.ru
dc.format.mimetypeapplication/pdf-
dc.language.isoruen
dc.publisherТомский политехнический университетru
dc.relation.ispartofИзвестия Томского политехнического университета [Известия ТПУ]. 2008. Т. 313, № 3: Химия. Физика-
dc.rightsinfo:eu-repo/semantics/openAccessen
dc.sourceИзвестия Томского политехнического университета-
dc.subjectповерхностные слои-
dc.subjectприповерхностные слои-
dc.subjectполупроводники-
dc.subjectарсенид галлия-
dc.subjectфазовые слои-
dc.subjectкристаллические слои-
dc.subjectполупроводниковые соединения-
dc.subjectэлектродные потенциалы-
dc.subjectводные системы-
dc.subjectстехиометрический состав-
dc.subjectгомогенность-
dc.subjectсоединения-
dc.subjectхимическая обработка-
dc.subjectматериалы-
dc.titleФормирование поверхностного и приповерхностного слоев на полупроводниках типа AIIIBVru
dc.typeArticleen
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/publishedVersionen
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/articleen
dcterms.audienceResearchesen
local.description.firstpage25-
local.description.lastpage30-
local.filepathhttp://www.lib.tpu.ru/fulltext/v/Bulletin_TPU/2008/v313/i3/04.pdf-
local.identifier.bibrecRU\TPU\book\188225-
local.identifier.perskeyRU\TPU\pers\34919-
local.issue3-
local.localtypeСтатьяru
local.volume313-
Располагается в коллекциях:Известия Томского политехнического университета. Инжиниринг георесурсов

Файлы этого ресурса:
Файл Описание РазмерФормат 
bulletin_tpu-2008-313-3-04.pdf453,19 kBAdobe PDFПросмотреть/Открыть


Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.