1. Электронный архив ТПУ
  2. Наука
  3. Материалы конференций
Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/25825
Полная запись метаданных
Поле DCЗначениеЯзык
dc.contributor.advisorЮрьева, Алена Викторовнаru
dc.contributor.authorРогожников, Д. С.ru
dc.contributor.authorЮрьева, Алена Викторовнаru
dc.contributor.authorШабунин, Артём Сергеевичru
dc.date.accessioned2016-06-22T16:29:36Z-
dc.date.available2016-06-22T16:29:36Z-
dc.date.issued2016-
dc.identifier.citationРогожников Д. С. Осаждение металлических покрытий с помощью магнетронной распылительной системы с жидкофазной мишенью / Д. С. Рогожников, А. В. Юрьева, А. С. Шабунин ; науч. рук. А. В. Юрьева // Перспективы развития фундаментальных наук : сборник научных трудов XIII Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 26-29 апреля 2016 г. : в 7 т. — Томск : Изд-во ТПУ, 2016. — Т. 1 : Физика. — [С. 253-255].ru
dc.identifier.urihttp://earchive.tpu.ru/handle/11683/25825-
dc.description.abstractThe paper presents a review of original investigations on magnetron sputtering systems with liquidphase target. The basic feature of such technique is a generation of liquid phase in solid state target. It providesto form a magnetron discharge on target vapor. For this reason, magnetron sputtering systems with liquid targetis used to deposition of thick metal films (10…100 μm) with high deposition rate (10…100 nm per second). Generally, it makes to increase of coatings quality, functional properties.en
dc.language.isoruen
dc.publisherИзд-во ТПУru
dc.relation.ispartofПерспективы развития фундаментальных наук : сборник научных трудов XIII Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 26-29 апреля 2016 г. . Т. 1 : Физика. — Томск, 2016.ru
dc.rightsinfo:eu-repo/semantics/openAccessen
dc.subjectметаллические покрытияru
dc.subjectмагнетронные распылительные системыru
dc.subjectжидкофазные мишениru
dc.subjectмагнетронное распылениеru
dc.subjectосаждениеru
dc.titleОсаждение металлических покрытий с помощью магнетронной распылительной системы с жидкофазной мишеньюru
dc.title.alternativeThe metall films deposition by using of the magnetron sputterihg system with the liquid-phase targeten
dc.typeConference Paperen
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/publishedVersionen
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/conferencePaperen
dcterms.audienceResearchesen
local.departmentНациональный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ)::Физико-технический институт (ФТИ)::Кафедра теоретической и экспериментальной физики (ТиЭФ)ru
local.departmentНациональный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ)::Физико-технический институт (ФТИ)::Кафедра технической физики (№ 23) (ТФ)::Лаборатория № 16ru
local.description.firstpage253-
local.description.lastpage255-
local.filepathconference_tpu-2016-C21_V1_p253-255.pdf-
local.identifier.bibrecRU\TPU\conf\16515-
local.identifier.colkeyRU\TPU\col\18726-
local.identifier.colkeyRU\TPU\col\19671-
local.identifier.perskeyRU\TPU\pers\30232-
local.identifier.perskeyRU\TPU\pers\36799-
local.localtypeДокладru
local.volume1-
local.conference.nameПерспективы развития фундаментальных наук-
local.conference.date2016-
Располагается в коллекциях:Материалы конференций

Файлы этого ресурса:
Файл Описание РазмерФормат 
conference_tpu-2016-C21_V1_p253-255.pdf292,43 kBAdobe PDFПросмотреть/Открыть
Показать базовое описание ресурса Статистика   Google Scholar


Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.