Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/27282
Полная запись метаданных
Поле DCЗначениеЯзык
dc.contributor.advisorСоловьев, Андрей Александровичru
dc.contributor.authorОскирко, Алёна Викторовнаru
dc.date.accessioned2016-06-23T14:34:02Z-
dc.date.available2016-06-23T14:34:02Z-
dc.date.issued2016-
dc.identifier.citationОскирко А. В. Напыление ультратонких пленок меди методом импульсного магнетронного напыления : дипломный проект / А. В. Оскирко ; Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ), Институт физики высоких технологий (ИФВТ), Кафедра высоковольтной электрофизики и сильноточной электроники (ВЭСЭ) ; науч. рук. А. А. Соловьев. — Томск, 2016.-
dc.identifier.urihttp://earchive.tpu.ru/handle/11683/27282-
dc.description.abstractРЕФЕРАТ Выпускная квалификационная работа 111 с., 32 рис., 19 табл., __57____источников, 1 прил. Ключевые слова: магнетронная распылительная система, сильноточное импульсное магнетронное распыление, ультратонкие пленки. Объектом исследования является сильноточный импульсный магнетронный разряд и полученные с его помощью ультратонкие пленки меди (толщиной от 5 до 20 нм). Цель работы – исследование влияня параметров сильноточного импульсного магнетронного распыления на структуру, свойства и итоговые эксплуатационные характеристики ультратонких пленок меди. В процессе исследования проводились - экспериментальное исследование параметров сильноточного импульсного магнетронного разряда. В процессе экспериментов были получены образцы ультратонких пленок, толщиной от 5 до 20 нм.ru
dc.description.abstractEinführung Das Thema der vorliegenden Arbeit ist high-field emission arc zur Erzeugung von amorphen Kohlenwasserstoffschichten. Künstlich erzeugte Plasmen werden in neuerer Zeit immer häufiger in der sogenannten Plasmatechnologie genutzt, um technisch sehr hochwertige Artikel, aber auch Gegenstände des täglichen Lebens herzustellen. Die Plasmatechnologie gehört dabei eher zu den unauffälligen Technologien, da ihr Einsatz oft nicht auf den ersten Blick zu erkennen ist.en
dc.format.mimetypeapplication/pdf-
dc.language.isoruen
dc.rightsinfo:eu-repo/semantics/openAccess-
dc.subjectмагнетронная распылительная системаru
dc.subjectсильноточное импульсное магнетронное распылениеru
dc.subjectультратонкие пленкиru
dc.subjectразрядru
dc.subjectплазмаru
dc.subjectMagnetron-Zerstäubungssystemen
dc.subjectIntense Pulsed Magnetron-Sputternen
dc.subjectultra-dünnen Filmenen
dc.subjectKupferen
dc.subjectPlasmaen
dc.titleНапыление ультратонких пленок меди методом импульсного магнетронного напыленияru
dc.typeStudents work-
local.departmentНациональный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ)::Институт физики высоких технологий (ИФВТ)::Кафедра высоковольтной электрофизики и сильноточной электроники (ВЭСЭ)-
local.institut6268-
local.localtypeСтуденческая работа-
dc.subject.oksvnk11.04.04-
local.thesis.levelМагистрru
local.thesis.disciplineЭлектроника и наноэлектроника-
local.local-vkr-id22066-
local.vkr-id5431-
local.stud-group4НМ41-
local.lichnost-id146918-
local.thesis.level-id3-
local.tutor-lichnost-id61060-
dc.subject.udc621.793.7:539.23:546.56-
Располагается в коллекциях:ВКР

Файлы этого ресурса:
Файл РазмерФормат 
TPU172720.pdf1,45 MBAdobe PDFПросмотреть/Открыть


Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.