Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/34804
Название: Low resistance Cu[3]Ge compounds formation by the lowtemperature treatment of Cu/Ge system in atomic hydrogen
Авторы: Kazimirov, A. I.
Erofeev, E. V.
Fedin, I. V.
Kagadei, V. A.
Yuriev, Yuri Nikolaevich
Ключевые слова: атомарный водород; поликристаллические пленки; обработка; водородная плазма; приповерхностные слои; полупроводниковые материалы; дефекты; кристаллические решетки; диффузия
Дата публикации: 2016
Издатель: IOP Publishing
Библиографическое описание: Low resistance Cu[3]Ge compounds formation by the lowtemperature treatment of Cu/Ge system in atomic hydrogen / A. I. Kazimirov [et al.] // IOP Conference Series: Materials Science and Engineering. — 2016. — Vol. 135 : Issues of Physics and Technology in Science, Industry and Medicine : VIII International Scientific Conference, 1–3 June 2016, Tomsk, Russia : [proceedings]. — [012016, 6 p.].
Аннотация: The research deals with the regularities for Cu[3]Ge compound formation under the low temperature treatment of a double-layer Cu/Ge system deposited on i-GaAs substrate in atomic hydrogen flow. The treatment of a Cu/Ge/i-GaAs system with layer thicknesses, respectively, of 122 and 78 nm, in atomic hydrogen with a flow rate of 10{15} at.·сm{-2} s{-1} for a duration of 2.5{-10} min at room temperature, leads to an interdiffusion of Cu and Ge and formation of a polycrystalline film containing stoichiometric phase Cu[3]Ge. The film consists of vertically oriented grains of dimensions 100-150 nm and has a minimum specific resistance of 4.5 [mu omega] сm. Variation in the treatment duration of Cu/Ge/i-GaAs samples in atomic hydrogen affects Cu and Ge distribution profiles, the phase composition of films formed, and the specific resistance of the latter. As observed, Cu3Ge compound synthesis at room temperature demonstrates the stimulative effects characteristic of atomic hydrogen treatment for both Cu and Ge diffusion and for the chemical reaction of Cu[3]Ge compound generation. Activation of these processes can be conditioned by the energy released during recombination of hydrogen atoms adsorbed on the surface of a Cu/Ge/i-GaAs sample.
URI: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/34804
Располагается в коллекциях:Материалы конференций

Файлы этого ресурса:
Файл РазмерФормат 
dx.doi.org-10.1088-1757-899X-135-1-012016.pdf1,02 MBAdobe PDFПросмотреть/Открыть


Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.