Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/36692
Название: Use of a thin liquid film moving under the action of gas flow in a mini-channel for removing high heat fluxes
Авторы: Zaitsev, Dmitry Valerievich
Tkachenko, Egor
Orlik, Evgeny
Kabov, Oleg
Ключевые слова: тонкие пленки; жидкости; потоки газов; тепловые потоки; охлаждение; полупроводниковые приборы
Дата публикации: 2017
Издатель: EDP Sciences
Библиографическое описание: Use of a thin liquid film moving under the action of gas flow in a mini-channel for removing high heat fluxes / D. V. Zaitsev [et al.] // MATEC Web of Conferences. — 2017. — Vol. 92 : Thermophysical Basis of Energy Technologies (TBET-2016) : Proceedings of the Conference, October 26-28, 2016, Tomsk, Russia. — [01037, 4 p.].
Аннотация: Intensively evaporating liquid films shear-driven in a mini- or micro-channel under the action of cocurrent gas flow are promising for the use in modern cooling systems of semiconductor devices. In this work, we investigated the influence of liquid and gas flow rates on the critical heat flux in a locally heated film of water, moving under the action of air flow in a mini-channel. In experiments a record value of critical heat flux of 870 W/cm{2} was reached. Heat spreading into the substrate and heat losses to the atmosphere in total do not exceed 25 % at heat fluxes above 400 W/cm{2} . A comparison with the critical heat flux for water flow boiling in the channel shows that, for shear-driven liquid films the critical heat flux is almost an order of magnitude higher.
URI: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/36692
Располагается в коллекциях:Материалы конференций

Файлы этого ресурса:
Файл РазмерФормат 
dx.doi.org-10.1051-matecconf-20179201037.pdf519,47 kBAdobe PDFПросмотреть/Открыть


Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.