Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/36692
Полная запись метаданных
Поле DCЗначениеЯзык
dc.contributor.authorZaitsev, Dmitry Valerievichen
dc.contributor.authorTkachenko, Egoren
dc.contributor.authorOrlik, Evgenyen
dc.contributor.authorKabov, Olegen
dc.date.accessioned2017-02-10T04:40:28Z-
dc.date.available2017-02-10T04:40:28Z-
dc.date.issued2017-
dc.identifier.citationUse of a thin liquid film moving under the action of gas flow in a mini-channel for removing high heat fluxes / D. V. Zaitsev [et al.] // MATEC Web of Conferences. — 2017. — Vol. 92 : Thermophysical Basis of Energy Technologies (TBET-2016) : Proceedings of the Conference, October 26-28, 2016, Tomsk, Russia. — [01037, 4 p.].ru
dc.identifier.urihttp://earchive.tpu.ru/handle/11683/36692-
dc.description.abstractIntensively evaporating liquid films shear-driven in a mini- or micro-channel under the action of cocurrent gas flow are promising for the use in modern cooling systems of semiconductor devices. In this work, we investigated the influence of liquid and gas flow rates on the critical heat flux in a locally heated film of water, moving under the action of air flow in a mini-channel. In experiments a record value of critical heat flux of 870 W/cm{2} was reached. Heat spreading into the substrate and heat losses to the atmosphere in total do not exceed 25 % at heat fluxes above 400 W/cm{2} . A comparison with the critical heat flux for water flow boiling in the channel shows that, for shear-driven liquid films the critical heat flux is almost an order of magnitude higher.en
dc.language.isoenen
dc.publisherEDP Sciencesru
dc.relation.ispartofMATEC Web of Conferences. Vol. 92 : Thermophysical Basis of Energy Technologies (TBET-2016). — Les Ulis, 2017.ru
dc.rightsinfo:eu-repo/semantics/openAccessen
dc.subjectтонкие пленкиru
dc.subjectжидкостиru
dc.subjectпотоки газовru
dc.subjectтепловые потокиru
dc.subjectохлаждениеru
dc.subjectполупроводниковые приборыru
dc.titleUse of a thin liquid film moving under the action of gas flow in a mini-channel for removing high heat fluxesen
dc.typeConference Paperen
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/publishedVersionen
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/conferencePaperen
dcterms.audienceResearchesen
local.departmentНациональный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ)::Энергетический институт (ЭНИН)::Кафедра атомных и тепловых электростанций (АТЭС)ru
local.description.firstpage1037-
local.filepathhttp://dx.doi.org/10.1051/matecconf/20179201037-
local.identifier.bibrecRU\TPU\network\18355-
local.identifier.colkeyRU\TPU\col\18683-
local.identifier.perskeyRU\TPU\pers\36024-
local.localtypeДокладru
local.volume922016-
local.conference.nameThermophysical Basis of Energy Technologies-
local.conference.date2016-
dc.identifier.doi10.1051/matecconf/20179201037-
Располагается в коллекциях:Материалы конференций

Файлы этого ресурса:
Файл РазмерФормат 
dx.doi.org-10.1051-matecconf-20179201037.pdf519,47 kBAdobe PDFПросмотреть/Открыть


Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.