Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс:
http://earchive.tpu.ru/handle/11683/48235| Название: | Структура пленок, напыляемых в магнитном поле с помощью плазмы магнетронного разряда |
| Авторы: | Загузин, Илья Юрьевич |
| Научный руководитель: | Мышкин, Вячеслав Федорович |
| Ключевые слова: | магнетронный разряд; магнетронная распылительная система; магнитное поле; низкотемпературная плазма; индексы Миллера; magnetron discharge; magnetron sputtering system; magnetic field; low-temperature plasma; Miller indexes |
| Дата публикации: | 2018 |
| Библиографическое описание: | Загузин И. Ю. Структура пленок, напыляемых в магнитном поле с помощью плазмы магнетронного разряда : бакалаврская работа / И. Ю. Загузин ; Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ), Инженерная школа ядерных технологий (ИЯТШ), Отделение ядерно-топливного цикла (ОЯТЦ) ; науч. рук. В. Ф. Мышкин. — Томск, 2018. |
| Аннотация: | Целью работы являлось исследование влияния слабого внешнего магнитного поля на морфологию поверхности плёнок, формируемых методом магнетронного распыления. В результате были определены размеры зерен в пленках, полученных под влиянием внешнего магнитного поля и без него. The aim of this paper was to research of the influence of weak external magnetic field on the morphology of the film's surface formed by magnetron sputtering. As a result, the grain sizes in the films obtained under the influence of an external magnetic field and without it were determined. |
| URI: | http://earchive.tpu.ru/handle/11683/48235 |
| Располагается в коллекциях: | Выпускные квалификационные работы (ВКР) |
Файлы этого ресурса:
| Файл | Описание | Размер | Формат | |
|---|---|---|---|---|
| TPU556468.pdf | 1,75 MB | Adobe PDF | Просмотреть/Открыть |
Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.