1. Электронный архив ТПУ
  2. Наука
  3. Материалы конференций
Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/57739
Полная запись метаданных
Поле DCЗначениеЯзык
dc.contributor.authorLuchin, A. V.en
dc.contributor.authorKrukovskii, K. V.en
dc.contributor.authorKashin, O. A.en
dc.date.accessioned2020-01-31T09:23:56Z-
dc.date.available2020-01-31T09:23:56Z-
dc.date.issued2019-
dc.identifier.citationLuchin A. V. Formation of the silicon coating on the NiTi substrate by magnetron sputteringi / A. V. Luchin, K. V. Krukovskii, O. A. Kashin // Gas Discharge Plasmas and Their Applications (GDP 2019) : 14th International Conference, September 15–21, 2019, Tomsk, Russia : abstracts. — Tomsk : TPU Publishing House, 2019. — [С. 190].en
dc.identifier.urihttp://earchive.tpu.ru/handle/11683/57739-
dc.language.isoenen
dc.relation.ispartofGas Discharge Plasmas and Their Applications (GDP 2019) : 14th International Conference, September 15–21, 2019, Tomsk, Russia. — Tomsk, 2019.ru
dc.rightsinfo:eu-repo/semantics/openAccessen
dc.subjectформированиеru
dc.subjectпокрытияru
dc.subjectподложкиru
dc.subjectмагнетронное распылениеru
dc.subjectкремнийru
dc.titleFormation of the silicon coating on the NiTi substrate by magnetron sputteringien
dc.typeConference Paperen
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/publishedVersionen
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/conferencePaperen
dcterms.audienceResearchesen
local.description.firstpage190-
local.filepathconference_tpu-2019-C108_p190.pdf-
local.identifier.bibrecRU\TPU\conf\32435-
local.localtypeДокладru
local.conference.nameGas Discharge Plasmas and Their Applications (GDP 2019)-
local.conference.date2019-
Располагается в коллекциях:Материалы конференций

Файлы этого ресурса:
Файл Описание РазмерФормат 
conference_tpu-2019-C108_p190.pdf621,89 kBAdobe PDFПросмотреть/Открыть
Показать базовое описание ресурса Статистика   Google Scholar


Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.