Формирование поперечных профилей электронных пучков

Abstract

В данной работе предложен метод формирования полей электронных пучков с заданными параметрами профиля, с использованием выравнивающих фильтров созданных методами трехмерной печати. Апробация метода проводилась на выведенном электронном пучке микротрона ТПУ. В рамках этого была проведена корректировка модели выведенного электронного пучка; на основе модели были рассчитаны фильтрующие элементы, заданным образом меняющие форму пучка; методом послойного наплавления были изготовлены электронные фильтры; проведены экспериментальные измерения профилей и форм электронного пучка, как с мишенью, так и без; проведено сравнение расчетных и экспериментальных данных.

In this paper we propose a method of formation of fields of electron beams to the settings profile, using the equalization filter created by three-dimensional printing methods. Testing of the method was carried out on the extracted electron beam of the TPU microtron for a further use of the results. As part of this, it was held correction model of the electron beam extracted; Model-based filter elements were calculated in a predetermined manner changing the shape of the beam; electronic filters were made by fusing layering; experimental measurements of the profiles and shapes of the electron beam with the target as well as without it; a comparison of the calculated and experimental data was conducted.