Высокоскоростное осаждение плёнок хрома с помощью магнетронной распылительной системой с горячей мишенью

Abstract

В результате исследования выявлены технологические возможности высокоскоростного осаждения плёнок хрома с помощью МРС с горячей мишенью. Получено, что при осаждении хромовых покрытий с горячей мишенью скорость осаждения увеличивается в 2 раза, потенциально при более высоких мощностях производительность процесса осаждения плёнок хрома может возрасти в 4 раза, при этом преобладающим аспектом будет скорость испарение. Кроме того, плёнки, полученные с помощью системы с горячим катодом, имеют более высокую адгезионную прочность по сравнению с образцами, полученными при помощи МРС с охлаждаемой мишенью.

A result of research are revealed the technological capabilities of high-chromium deposition film using magnetron sputtering system with hot target. It was found that during the deposition of chromium coatings with hot target deposition rate is increased by 2 times, potentially at higher capacity performance of the process of deposition of chromium films may increase by 4 times, while the predominant aspect is evaporation. Moreover, the film obtained by hot cathode system, have a higher adhesive strength compared with the samples obtained using MSS cold target.