Исследование процесса распыления алюминиевой мишени при воздействии импульсов постоянного тока

Abstract

В ходе выполнения научной работы проводились экспериментальные исследования по осаждению алюминиевых покрытий с помощью магнетронной распылительной системы с комбинированным источником питания. Изучено влияние предварительной ионизации разрядного промежутка среднечастотными импульсами на параметры процесса сильноточного магнетронного распыления алюминиевого катода. Проведены расчеты величины задержки переходы работы магнетрона в высокомощный режим в зависимости от параметров импульса и наличия/отсутствия внешней системы предварительной ионизации. Определена эволюция состав плазмы в зависимости от параметров экспериментальной системы и получены данные о влиянии параметров сильноточного источника питания на скорость осаждения алюминиевых покрытий.

Experimental studies were carried out on the deposition of aluminum coatings using a magnetron sputtering system with a combined power source. The effect of preliminary ionization by medium-frequency pulses on the process of high-current magnetron sputtering is studied. Calculations of the delay for transition to a high-power regime are performed depending on the pulse parameters and the presence / absence of an external preliminary ionization system. The evolution of the plasma composition is determined depending on the parameters of the experimental system and data are obtained on the effect of parameters of a high-current power source on the deposition rate of aluminum coatings.