Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс:
http://earchive.tpu.ru/handle/11683/39642
Полная запись метаданных
Поле DC | Значение | Язык |
---|---|---|
dc.contributor.advisor | Евдокимов, Кирилл Евгеньевич | ru |
dc.contributor.author | Шурен, Жазира Бакытбеккызы | ru |
dc.date.accessioned | 2017-06-08T10:50:43Z | - |
dc.date.available | 2017-06-08T10:50:43Z | - |
dc.date.issued | 2017 | - |
dc.identifier.citation | Шурен Ж. Б. Исследование процессов распыления и ионной имплантации при осаждении тонких плёнок оксидов и нитридов титана методом реактивного магнетронного напыления : магистерская диссертация / Ж. Б. Шурен ; Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ), Физико-технический институт (ФТИ), Кафедра экспериментальной физики (ЭФ) ; науч. рук. К. Е. Евдокимов. — Томск, 2017. | - |
dc.identifier.uri | http://earchive.tpu.ru/handle/11683/39642 | - |
dc.description.abstract | В ходе работы были определены зависимости полных, парциальных коэффициентов распыления и knock-on коэффициентов от энергии налетающих ионов. Были определены средний пробег ионов при ионной имплантации. А также определены профили осаждения подложки. Полученные данные позволяют определить область наибольших значений скорости осаждения частиц. | ru |
dc.description.abstract | In the course of work were identified based on full, partial sputtering yields and knock-on coefficients from the energy of the incident ions. The average range of ions were determined by ion implantation. And also, the profiles of the deposition substrate were determined. The obtained data allow to determine the region of higher values of the settling velocity of the particles. | en |
dc.format.mimetype | application/pdf | - |
dc.language.iso | ru | en |
dc.rights | info:eu-repo/semantics/openAccess | - |
dc.subject | тонкие плёнки | ru |
dc.subject | оксиды и нитриды титана | ru |
dc.subject | реактивное магнетронное напыление | ru |
dc.subject | ионная имплантация | ru |
dc.subject | коэффициент распыления | ru |
dc.subject | thin films | en |
dc.subject | titanium oxide and nitride | en |
dc.subject | reactive magnetron sputtering | en |
dc.subject | ion implantation | en |
dc.subject | sputtering yield | en |
dc.title | Исследование процессов распыления и ионной имплантации при осаждении тонких плёнок оксидов и нитридов титана методом реактивного магнетронного напыления | ru |
dc.type | Students work | - |
local.department | Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ)::Физико-технический институт (ФТИ)::Кафедра экспериментальной физики (ЭФ) | - |
local.institut | 6270 | - |
local.localtype | Студенческая работа | - |
dc.subject.oksvnk | 16.04.01 | - |
local.thesis.level | Магистр | ru |
local.thesis.discipline | Техническая физика | - |
local.local-vkr-id | 230850 | - |
local.vkr-id | 22897 | - |
local.stud-group | 0ДМ51 | - |
local.lichnost-id | 152587 | - |
local.thesis.level-id | 3 | - |
local.tutor-lichnost-id | 57461 | - |
dc.subject.udc | 539.216.2:621.793.7:669.295.065 | - |
Располагается в коллекциях: | Выпускные квалификационные работы (ВКР) |
Файлы этого ресурса:
Файл | Описание | Размер | Формат | |
---|---|---|---|---|
TPU391001.pdf | 3,05 MB | Adobe PDF | Просмотреть/Открыть |
Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.