Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/41501
Полная запись метаданных
Поле DCЗначениеЯзык
dc.contributor.advisorПичугин, Владимир Федоровичru
dc.contributor.authorСунь Чжилэйru
dc.contributor.authorКонищев, Максим Евгеньевичru
dc.contributor.authorПустовалова, Алла Александровнаru
dc.date.accessioned2017-07-17T22:03:06Z-
dc.date.available2017-07-17T22:03:06Z-
dc.date.issued2017-
dc.identifier.citationСунь Чжилэй. Анализ микроструктуры пленок на основе оксинитридов титана, осажденных методом реактивного магнетронного распыления / Сунь Чжилэй, М. Е. Конищев, А. А. Пустовалова ; науч. рук. В. Ф. Пичугин // Перспективы развития фундаментальных наук : сборник научных трудов XIV Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 25-28 апреля 2017 г. : в 7 т. — Томск : Изд-во ТПУ, 2017. — Т. 1 : Физика. — [С. 423-425].ru
dc.identifier.urihttp://earchive.tpu.ru/handle/11683/41501-
dc.description.abstractThis paper presents the structure analysis results of TiOxNy films, deposited using reactive magnetron sputtering with different O2/N2 flow ratio. The impact of increase of N2 flow upon the films structure has been studied. The analysis was carried out by X-ray diffraction method. The lattice parameters and phase composition were calculated using PowderCell 2.4.en
dc.language.isoruen
dc.publisherИзд-во ТПУru
dc.relation.ispartofПерспективы развития фундаментальных наук : сборник научных трудов XIV Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 25-28 апреля 2017 г. Т. 1 : Физика. — Томск, 2017.ru
dc.rightsinfo:eu-repo/semantics/openAccessen
dc.subjectбиосовместимостьru
dc.subjectимплантатыru
dc.subjectмедицинское материаловедениеru
dc.subjectгладкомышечные клеткиru
dc.subjectгемосовместимостьru
dc.titleАнализ микроструктуры пленок на основе оксинитридов титана, осажденных методом реактивного магнетронного распыленияru
dc.title.alternativeMicrostructure analysis of titanium oxynitride films deposited by reactive magnetron sputteringen
dc.typeConference Paperen
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/publishedVersionen
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/conferencePaperen
dcterms.audienceResearchesen
local.departmentНациональный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ)::Физико-технический институт (ФТИ)::Кафедра экспериментальной физики (ЭФ)ru
local.description.firstpage423-
local.description.lastpage425-
local.filepathconference_tpu-2017-C21_V1_p423-425.pdf-
local.identifier.bibrecRU\TPU\conf\21527-
local.identifier.colkeyRU\TPU\col\21255-
local.identifier.perskeyRU\TPU\pers\27837-
local.identifier.perskeyRU\TPU\pers\31045-
local.localtypeДокладru
local.volume1-
local.conference.nameПерспективы развития фундаментальных наук-
local.conference.date2017-
Располагается в коллекциях:Материалы конференций

Файлы этого ресурса:
Файл Описание РазмерФормат 
conference_tpu-2017-C21_V1_p423-425.pdf368,13 kBAdobe PDFПросмотреть/Открыть


Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.