Структура пленок, напыляемых в слабом магнитном поле путем магнетронного распыления вещества

Abstract

Объектом исследования являются плёнки меди, полученные с помощью МРС. Цель работы - исследование пленок, образующихся в слабом постоянном магнитном поле из плазмы магнетронного разряда. В процессе работы проводились: экспериментальные исследования работы магнетронных распылительных систем в среде смеси газов (аргон, кислород), получение покрытий меди, исследовалась кристаллическая и морфологическая структура и влияние слабого магнитного поля на её формирование. Область применения данного покрытия: создание и усовершенствование полупроводниковых и фотоэлектронных элементов.

The object of the study are copper films obtained by magnetron . The purpose of this work is to study films formed in a weak constant magnetic field from a plasma of a magnetron discharge. In the course of the work, the following experiments were carried out: experimental studies of the operation of magnetron sputtering systems in a mixture of gases (argon, oxygen), the production of copper coatings, the crystal and morphological structure and the influence of a weak magnetic field on its formation were studied. The scope of this coating: the creation and improvement of semiconductor and photoelectronic elements.