Осаждение кремний-углеродных покрытий для оптических применений

Abstract

Объектом исследования являются кремний-углеродные пленки, полученные из плазмы несамостоятельного дугового разряда с накальным катодом при использовании импульсного биполярного напряжения смещения. Целью работы является изучение влияния амплитуды отрицательного импульса биполярного напряжения смещения и рабочего давления аргона на оптические свойства кремний-углеродных пленок, формируемых методом плазмохимического осаждения в парах полифенилметилсилоксана (ПФМС).

The object of the study are silicon-carbon films obtained from a plasma of a non-self-sustained arc discharge with a filamentary cathode using a pulsed bipolar bias voltage. The work aim is to study the influence of the bipolar bias voltage negative pulse amplitude and the argon working pressure on the optical properties of silicon-carbon films formed by the plasma-chemical deposition method in polyphenylmethylsiloxane (PFMS) pairs.