Влияние индукции магнитного поля в области подложки и расстояния до плазмогенератора на структуру и механические свойства плёнок a–C:H:SiOx

Abstract

Объектом исследования являются a–C:H:SiOx плёнки, полученные плазмохимическим методом при использовании импульсного биполярного напряжения смещения. Целью работы было изучение влияния индукции магнитного поля в области подложки и расстояния плазмогенератор/подложка на механические свойства a–C:H:SiOx плёнок, наносимых плазмохимическим методом с использованием импульсного биполярного напряжения смещения в парах полифенилметилсилоксана. В процессе работы проводилась оптимизация условий осаждения и исследование механических свойств полученных плёнок.

The object of research is a–C:H:SiOx films obtained by the plasma-chemical method using pulsed bipolar bias voltage. The aim of the work was to study the effect of magnetic field induction in the substrate region and the plasma generator/substrate distance on the mechanical properties of a–C:H:SiOx films deposited by the plasma-chemical method using a pulsed bipolar bias voltage in polyphenylmethylsiloxane vapors. In the process, the deposition conditions were optimized and the mechanical properties of the resulting films were studied.