Получение тонкопленочных люминесцентных покрытий методом магнетронного распыления

Abstract

В процессе исследования были изучены структурные, а также физические свойства тонкопленочного люминофора в зависимости от различных параметров осаждения. Был проведен анализ структурных и физических свойств полученных покрытий методом рентгеновской спектроскопии. В результате проделанной работы показано, что скорость осаждение тонкопленочного люминофора увеличивается при повышении потока кислорода, при недостаточном количестве кислорода в адсорбируемом покрытии после отжига формируется нежелательная фаза Al2Y3, препятствующая эффекту люминесценции, процесс отжига приводит к перекристаллизации люминофора, что ведет к увеличению тока люминесценции.

The structural as well as physical properties of the thin-film luminophore depending on different deposition parameters were studied in the course of the study. The structural and physical properties of the obtained coatings were analyzed by X-ray spectroscopy. As a result of this work it was demonstrated that the deposition rate of thin film luminophore increases with increasing oxygen flow, with insufficient oxygen in the adsorbed coating after annealing an undesirable phase Al2Y3 is formed, preventing the effect of luminescence, the annealing process leads to recrystallization of luminophore, which leads to an increase in the luminescence current.