1. Электронный архив ТПУ
  2. Наука
  3. Материалы конференций
Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/72900
Полная запись метаданных
Поле DCЗначениеЯзык
dc.contributor.advisorСиделёв, Дмитрий Владимировичru
dc.contributor.authorВоронина, Е. Д.ru
dc.contributor.authorСиделёв, Дмитрий Владимировичru
dc.date.accessioned2022-09-07T07:52:48Z-
dc.date.available2022-09-07T07:52:48Z-
dc.date.issued2022-
dc.identifier.citationВоронина, Е. Д. Осаждение плёнок оксида меди при магнетронном распылении в металлическом режиме / Е. Д. Воронина, Д. В. Сиделёв ; науч. рук. Д. В. Сиделёв // Перспективы развития фундаментальных наук : сборник научных трудов XIX Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 26-29 апреля 2022 г. : в 7 т. — Томск : Изд-во ТПУ, 2022. — Т. 1 : Физика. — [С. 50-52].ru
dc.identifier.urihttp://earchive.tpu.ru/handle/11683/72900-
dc.description.abstractThis article describes the possibility of film deposition of copper oxide using magnetron sputtering in Ar+O2 operating in a metallic mode. To do this, hysteresis of discharge voltage was obtained at constant (20 sccm) Ar and variable (100 sccm) O2 gas flows, with and without using additional radio-frequency plasma source RPG-128. Then, CuOx films were obtained in metallic modes of magnetron sputtering of copper target at a discharge power of 1000 and 2000 W. These films were investigated by X-ray diffraction to determine its crystal structure.en
dc.format.mimetypeapplication/pdf-
dc.language.isoruen
dc.publisherТомский политехнический университетru
dc.relationinfo:eu-repo/grantAgreement/RSF//22-29-01173-
dc.relation.ispartofПерспективы развития фундаментальных наук : сборник научных трудов XIX Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 26-29 апреля 2022 г. Т. 1 : Физикаru
dc.rightsinfo:eu-repo/semantics/openAccess-
dc.rightsAttribution-NonCommercial 4.0 Internationalen
dc.rights.urihttps://creativecommons.org/licenses/by-nc/4.0/-
dc.subjectосаждениеru
dc.subjectпленкиru
dc.subjectоксид медиru
dc.subjectмагнетронное распылениеru
dc.subjectоксиды металловru
dc.subjectметаллические режимыru
dc.titleОсаждение плёнок оксида меди при магнетронном распылении в металлическом режимеru
dc.title.alternativeFilm deposition of copper oxide using magnetron sputtering in a metallic modeen
dc.typeConference Paperen
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/conferencePaper-
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/publishedVersion-
dcterms.audienceResearchesen
local.description.firstpage50-
local.description.lastpage52-
local.filepathconference_tpu-2022-C21_V1_p50-52.pdf-
local.identifier.bibrecRU\TPU\conf\36492-
local.identifier.perskeyRU\TPU\pers\34510-
local.localtypeДокладru
local.volume1-
local.conference.nameПерспективы развития фундаментальных наукru
local.conference.date2022-
Располагается в коллекциях:Материалы конференций

Файлы этого ресурса:
Файл Описание РазмерФормат 
conference_tpu-2022-C21_V1_p50-52.pdf368,45 kBAdobe PDFПросмотреть/Открыть
Показать базовое описание ресурса Статистика


Лицензия на ресурс: Лицензия Creative Commons Creative Commons