Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс:
http://earchive.tpu.ru/handle/11683/72948
Название: | Влияние расстояния до подложки на процесс формирования покрытия из кубического карбида вольфрама плазмодинамическим методом |
Другие названия: | Effect of the distance to the substrate on the formation of a coating from cubic tungsten carbide by the plasma dynamic method |
Авторы: | Насырбаев, Артур |
Научный руководитель: | Сивков, Александр Анатольевич |
Ключевые слова: | подложки; покрытия; карбид вольфрама; плазмодинамические методы; эксплуатационные характеристики; срок службы; кубическая фаза; фазовый состав |
Дата публикации: | 2022 |
Издатель: | Томский политехнический университет |
Библиографическое описание: | Насырбаев, А. Влияние расстояния до подложки на процесс формирования покрытия из кубического карбида вольфрама плазмодинамическим методом / А. Насырбаев ; науч. рук. А. А. Сивков // Перспективы развития фундаментальных наук : сборник научных трудов XIX Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 26-29 апреля 2022 г. : в 7 т. — Томск : Изд-во ТПУ, 2022. — Т. 2 : Химия. — [C. 151-153]. |
Аннотация: | The paper shows the possibility of obtaining coatings from cubic tungsten carbide by the plasma dynamic method. According to X-ray phase analysis, the coating consists mainly of cubic tungsten carbide (up to 97%), hexagonal modifications - W2C and WC, also unreacted tungsten and carbon. The optimal location of the substrate relative to the cut of the graphite electrode-barrel was determined, which provides the maximum content of cubic tungsten carbide, as well as the largest deposition area, which amounted to 55÷65 mm. |
URI: | http://earchive.tpu.ru/handle/11683/72948 |
Располагается в коллекциях: | Материалы конференций |
Файлы этого ресурса:
Файл | Описание | Размер | Формат | |
---|---|---|---|---|
conference_tpu-2022-C21_V2_p151-153.pdf | 236,96 kB | Adobe PDF | Просмотреть/Открыть |
Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.