Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/72948
Название: Влияние расстояния до подложки на процесс формирования покрытия из кубического карбида вольфрама плазмодинамическим методом
Другие названия: Effect of the distance to the substrate on the formation of a coating from cubic tungsten carbide by the plasma dynamic method
Авторы: Насырбаев, Артур
Научный руководитель: Сивков, Александр Анатольевич
Ключевые слова: подложки; покрытия; карбид вольфрама; плазмодинамические методы; эксплуатационные характеристики; срок службы; кубическая фаза; фазовый состав
Дата публикации: 2022
Издатель: Томский политехнический университет
Библиографическое описание: Насырбаев, А. Влияние расстояния до подложки на процесс формирования покрытия из кубического карбида вольфрама плазмодинамическим методом / А. Насырбаев ; науч. рук. А. А. Сивков // Перспективы развития фундаментальных наук : сборник научных трудов XIX Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 26-29 апреля 2022 г. : в 7 т. — Томск : Изд-во ТПУ, 2022. — Т. 2 : Химия. — [C. 151-153].
Аннотация: The paper shows the possibility of obtaining coatings from cubic tungsten carbide by the plasma dynamic method. According to X-ray phase analysis, the coating consists mainly of cubic tungsten carbide (up to 97%), hexagonal modifications - W2C and WC, also unreacted tungsten and carbon. The optimal location of the substrate relative to the cut of the graphite electrode-barrel was determined, which provides the maximum content of cubic tungsten carbide, as well as the largest deposition area, which amounted to 55÷65 mm.
URI: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/72948
Располагается в коллекциях:Материалы конференций

Файлы этого ресурса:
Файл Описание РазмерФормат 
conference_tpu-2022-C21_V2_p151-153.pdf236,96 kBAdobe PDFПросмотреть/Открыть


Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.