Высокоскоростное осаждение CrAlN покрытий с помощью магнетронного распыления

Abstract

Цель работы – разработать технологическую схему высокоскоростного осаждения CrAlN покрытий с помощью магнетронного распыления при разделении потоков газов в камеру и использовании дополнительного ассистирующего плазменного источника. В результате работы показано влияние потока азота, мощности Cr и Al магнетронов, скорости планетарного вращения подложки на структурные и функциональные свойства покрытий CrAlN. Получена технология высокоскоростного осаждения CrAlN покрытий с помощью магнетронного распыления, которая характеризуется большей производительностью по сравнению с технологиями сильноточного магнетронного распыления и дугового испарения.

The purpose of the work is to develop a technological scheme of high-speed deposition of CrAlN coatings using magnetron sputtering with separation of gas flows into the chamber and the use of an additional assisting plasma source. The work has shown the influence of nitrogen flow, Cr and Al magnetron power, and substrate planetary rotation speed on the structural and functional properties of CrAlN coatings. The technology of high-speed deposition of CrAlN coatings using magnetron sputtering has been obtained, which is characterized by higher productivity in comparison with high-current magnetron sputtering and arc evaporation technologies.