Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/80513
Название: Features of adsorption of silicon on TiN(111) compound in presence of substitution impurities Al and Ta: first principle calculations
Авторы: Ognev, Sergey Olegovich
Научный руководитель: Svyatkin, Leonid Aleksandrovich
Bolsunovskaya, Ludmila Mihailovna
Ключевые слова: titanium nitride; silicon; protective wear-resistant coating; adsorption of silicon
Дата публикации: 2024
Издатель: Томский политехнический университет
Библиографическое описание: Ognev, S. O. Features of adsorption of silicon on TiN(111) compound in presence of substitution impurities Al and Ta: first principle calculations / S. O. Ognev ; Scientific Supervisor L. A. Svyatkin, L. M. Bolsunovskaya ; Tomsk Polytechnic University // Перспективы развития фундаментальных наук — Томск : Изд-во ТПУ, 2024. — Т. 1 : Физика. — С. 386-388.
Аннотация: We present the results of an ab initio study of silicon adsorption on the (111) surface of TiN with NaCl structure in the presence of substitutional impurities Al and Ta. All possible symmetric non-equivalent positions of the silicon atom on the (111) surface with titanium and nitrogen terminations were considered, and the binding energy of the silicon atom in these positions was calculated. The most energetically favorable positions for adsorption on the considered (111) surface were determined
URI: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/80513
Располагается в коллекциях:Материалы конференций

Файлы этого ресурса:
Файл Описание РазмерФормат 
conference_tpu-2024-C21_V1_p386-388.pdf636,98 kBAdobe PDFПросмотреть/Открыть


Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.