Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/18225
Название: Magnetron deposition of TCO films using ion beam
Авторы: Asainov, Oleg Khaydarovich
Umnov, Sergey Pavlovich
Chinin, A.
Ключевые слова: магнетронное осаждение; ионные пучки; тонкие пленки; магнетронные напыления; оптические свойства; рентгеновские лучи; дифракция; кристаллические структуры
Дата публикации: 2015
Издатель: IOP Publishing
Библиографическое описание: Asainov O. Kh. Magnetron deposition of TCO films using ion beam / O. Kh. Asainov, S. P. Umnov, A. Chinin // Journal of Physics: Conference Series. — 2015. — Vol. 652 : Gas Discharge Plasmas and Their Applications (GDP 2015) : 12th International Conference, 6–11 September 2015, Tomsk, Russia : [proceedings]. — [012046, 4 p.].
Аннотация: Thin films of tin oxide (TO) were deposited on the glass substrates at room temperature using reactive magnetron sputtering at various oxygen partial pressures. After the deposition the films were irradiated with argon ions beam. The change of the optical and electrical properties of the films depending on the irradiation time was studied. Films optical properties in the range of 300-1100 nm were investigated by photometry as well as their structural properties were studied using X-ray diffraction. Diffractometric research showed that the films, deposited on a substrate, have a crystal structure, and after argon ions irradiation they become quasi-crystalline (amorphous). It was found that the transmission increases proportionally with the irradiation time, but the surface resistance -disproportionally.
URI: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/18225
Располагается в коллекциях:Материалы конференций

Файлы этого ресурса:
Файл РазмерФормат 
dx.doi.org-10.1088-1742-6596-652-1-012046.pdf1,07 MBAdobe PDFПросмотреть/Открыть


Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.