Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/25997
Название: Влияние напряжения смещения на морфологию поверхности и структуру азотсодержащих тонких пленок диоксида титана
Другие названия: Influence of bias voltage on the surface morphology and structure of nitrogen-containing titanium dioxide thin films
Авторы: Иванова, Нина Михайловна
Пустовалова, Алла Александровна
Научный руководитель: Пичугин, Владимир Федорович
Ключевые слова: диоксид титана; физико-химические свойства; электрические свойства; магнетронные распылительные системы; нержавеющие стали
Дата публикации: 2016
Издатель: Изд-во ТПУ
Библиографическое описание: Иванова Н. М. Влияние напряжения смещения на морфологию поверхности и структуру азотсодержащих тонких пленок диоксида титана / Н. М. Иванова, А. А. Пустовалова ; науч. рук. В. Ф. Пичугин // Перспективы развития фундаментальных наук : сборник научных трудов XIII Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 26-29 апреля 2016 г. : в 7 т. — Томск : Изд-во ТПУ, 2016. — Т. 1 : Физика. — [С. 112-114].
Аннотация: Nitrogen-TiO2 thin films have been deposited by the reactive magnetron sputtering by using differentO2/N2 gas ratios and negative bias voltage. This work reports on the study results of the changes in the surfacemorphology, structure and phase composition of the thin films depending on deposition modes. SEM analysisshowed the reduction of grains with nitrogen introduction. XRD data demonstrated phase transition in the filmsthrough the nitrogen incorporation and bias voltage applying.
URI: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/25997
Располагается в коллекциях:Материалы конференций

Файлы этого ресурса:
Файл РазмерФормат 
conference_tpu-2016-C21_V1_p112-114.pdf1,69 MBAdobe PDFПросмотреть/Открыть


Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.