1. Электронный архив ТПУ
  2. Наука
  3. Материалы конференций
Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/26019
Полная запись метаданных
Поле DCЗначениеЯзык
dc.contributor.advisorЛинник, Степан Андреевичru
dc.contributor.authorОхотников, Виталий Владимировичru
dc.contributor.authorЛинник, Степан Андреевичru
dc.contributor.authorГайдайчук, Александр Валерьевичru
dc.date.accessioned2016-06-22T16:30:54Z-
dc.date.available2016-06-22T16:30:54Z-
dc.date.issued2016-
dc.identifier.citationОхотников В. В. Исследование воздействия реактивного ионного и плазмохимического травления на морфологию поверхности алмазных покрытий / В. В. Охотников, С. А. Линник, А. В. Гайдайчук ; науч. рук. С. А. Линник // Перспективы развития фундаментальных наук : сборник научных трудов XIII Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 26-29 апреля 2016 г. : в 7 т. — Томск : Изд-во ТПУ, 2016. — Т. 1 : Физика. — [С. 205-207].ru
dc.identifier.urihttp://earchive.tpu.ru/handle/11683/26019-
dc.description.abstractThe effect of treatment by reactive ion etching in an argon atmosphere, and hydrogen plasma etching ina glow discharge plasma on the surface of the diamond films deposited by CVD method was investigated. Basedon the results of the research, changes in the surface morphology of the coatings and phase composition was analyzed, the processes occurring in the processing was researched.en
dc.language.isoruen
dc.publisherИзд-во ТПУru
dc.relation.ispartofПерспективы развития фундаментальных наук : сборник научных трудов XIII Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 26-29 апреля 2016 г. . Т. 1 : Физика. — Томск, 2016.ru
dc.rightsinfo:eu-repo/semantics/openAccessen
dc.subjectалмазные покрытияru
dc.subjectполупроводниковая электроникаru
dc.subjectтеплопроводностьru
dc.subjectоптические элементыru
dc.subjectплазмохимическое травлениеru
dc.titleИсследование воздействия реактивного ионного и плазмохимического травления на морфологию поверхности алмазных покрытийru
dc.title.alternativeThe research of reactive ion and plasma-chemical etching effect on a diamond coatings surface morphologyen
dc.typeConference Paperen
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/publishedVersionen
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/conferencePaperen
dcterms.audienceResearchesen
local.departmentНациональный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ)::Институт физики высоких технологий (ИФВТ)::Лаборатория № 1ru
local.description.firstpage205-
local.description.lastpage207-
local.filepathconference_tpu-2016-C21_V1_p205-207.pdf-
local.identifier.bibrecRU\TPU\conf\16501-
local.identifier.colkeyRU\TPU\col\19035-
local.identifier.perskeyRU\TPU\pers\36430-
local.identifier.perskeyRU\TPU\pers\28210-
local.identifier.perskeyRU\TPU\pers\28207-
local.localtypeДокладru
local.volume1-
local.conference.nameПерспективы развития фундаментальных наук-
local.conference.date2016-
Располагается в коллекциях:Материалы конференций

Файлы этого ресурса:
Файл Описание РазмерФормат 
conference_tpu-2016-C21_V1_p205-207.pdf478,71 kBAdobe PDFПросмотреть/Открыть
Показать базовое описание ресурса Статистика   Google Scholar


Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.