Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/30090
Название: Высокоскоростное осаждение плёнок хрома с помощью магнетронной распылительной системой с горячей мишенью
Авторы: Койшыбаева, Жанымгул Койшыбайкызы
Научный руководитель: Сиделёв, Дмитрий Владимирович
Ключевые слова: высокоскоростное осаждение покрытий; магнетронные распылительные системы; магнетронное распыление с высокой мощностью; хромовое покрытие; горячая мишень; high-rate deposition of films; magnetron sputtering system; magnetron sputtering with high power; chromium coatings; a hot target
Дата публикации: 2016
Библиографическое описание: Койшыбаева Ж. К. Высокоскоростное осаждение плёнок хрома с помощью магнетронной распылительной системой с горячей мишенью : дипломный проект / Ж. К. Койшыбаева ; Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ), Физико-технический институт (ФТИ), Кафедра экспериментальной физики (ЭФ) ; науч. рук. Д. В. Сиделёв. — Томск, 2016.
Аннотация: В результате исследования выявлены технологические возможности высокоскоростного осаждения плёнок хрома с помощью МРС с горячей мишенью. Получено, что при осаждении хромовых покрытий с горячей мишенью скорость осаждения увеличивается в 2 раза, потенциально при более высоких мощностях производительность процесса осаждения плёнок хрома может возрасти в 4 раза, при этом преобладающим аспектом будет скорость испарение. Кроме того, плёнки, полученные с помощью системы с горячим катодом, имеют более высокую адгезионную прочность по сравнению с образцами, полученными при помощи МРС с охлаждаемой мишенью.
A result of research are revealed the technological capabilities of high-chromium deposition film using magnetron sputtering system with hot target. It was found that during the deposition of chromium coatings with hot target deposition rate is increased by 2 times, potentially at higher capacity performance of the process of deposition of chromium films may increase by 4 times, while the predominant aspect is evaporation. Moreover, the film obtained by hot cathode system, have a higher adhesive strength compared with the samples obtained using MSS cold target.
URI: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/30090
Располагается в коллекциях:ВКР

Файлы этого ресурса:
Файл РазмерФормат 
TPU209504.pdf1,74 MBAdobe PDFПросмотреть/Открыть


Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.