Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/30303
Название: Исследование тепловых и эрозионных процессов в теплоизолированных мишенях магнетронных распылительных систем
Авторы: Комарова, Диана Андреевна
Научный руководитель: Блейхер, Галина Алексеевна
Ключевые слова: мишень; теплоизолированная; тепловые; эрозионные; МРС; target; insulated; heat; erosion; MSS
Дата публикации: 2016
Библиографическое описание: Комарова Д. А. Исследование тепловых и эрозионных процессов в теплоизолированных мишенях магнетронных распылительных систем : дипломный проект / Д. А. Комарова ; Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ), Физико-технический институт (ФТИ), Кафедра экспериментальной физики (ЭФ) ; науч. рук. Г. А. Блейхер. — Томск, 2016.
Аннотация: В данной работе получены закономерности тепловых и эрозионных процессов в мишенях магнетронных распылительных систем (МРС), имеющих полную или частичную теплоизоляцию с охлаждаемыми элементами катодных узлов. Были рассмотрены два вида конструкций МРС: мишень в тигле с возможностью её полного расплавления и твердотельная «горячая» мишень. Результаты получены как для магнетронов на постоянном токе, так и работающих в импульсно-периодическом режиме. Полученные результаты способствуют развитию представлений о тепловых и эрозионных процессах в мишенях МРС и способах повышения производительности осаждения покрытий с их использованием.
In this work dependences of heat and erosion processes in targets of Magnetron Sputtering Systems (MSS), which have full or partial heat insulation from cooling elements of a cathode, are obtained. Two kinds of MSS construction are considered, specifically a target in a crucible with possibility of its complete melting and a solid state "hot" target. Results are obtained for MSS with DC power supply and for MSS with periodic pulsed power supply. These results contribute to development of an image of heat and erosion processes in MSS targets and ways of perfomance increase of thin film deposition with their use.
URI: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/30303
Располагается в коллекциях:ВКР

Файлы этого ресурса:
Файл РазмерФормат 
TPU210790.pdf1,27 MBAdobe PDFПросмотреть/Открыть


Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.