Please use this identifier to cite or link to this item: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/53992
Title: Моделирование процесса формирования металлических покрытий при осаждении из газовой фазы
Authors: Ляо, Цзицин
metadata.dc.contributor.advisor: Чистякова, Надежда Владимировна
Keywords: метод молекулярной динамики; осаждение тонких пленок; шероховатость; атомистическое моделирование; температуры подложки; molecular Dynamics Method; thin film deposition; roughness; atomistic simulations; substrate temperatures
Issue Date: 2019
Citation: Ляо Ц. Моделирование процесса формирования металлических покрытий при осаждении из газовой фазы : бакалаврская работа / Ц. Ляо ; Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ), Инженерная школа ядерных технологий (ИЯТШ), Отделение экспериментальной физики (ОЭФ) ; науч. рук. Н. В. Чистякова. — Томск, 2019.
Abstract: Объектом исследований являлся процесс нанесения металлических покрытий на металлические подложки. Изучение влияния величины, направления скорости адатомов и температура подложки на шероховатость поверхности пленки с помощью молекулярной динамики.
The object of research was the process of applying metal coatings on metal substrates. Studying the influence of the magnitude, direction of the velocity of adatoms and the temperature of the substrate on the surface roughness of the film using molecular dynamics.
URI: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/53992
Appears in Collections:ВКР

Files in This Item:
File SizeFormat 
TPU714159.pdf3,46 MBAdobe PDFView/Open


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.