Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/53992
Название: Моделирование процесса формирования металлических покрытий при осаждении из газовой фазы
Авторы: Ляо, Цзицин
Научный руководитель: Чистякова, Надежда Владимировна
Ключевые слова: метод молекулярной динамики; осаждение тонких пленок; шероховатость; атомистическое моделирование; температуры подложки; molecular Dynamics Method; thin film deposition; roughness; atomistic simulations; substrate temperatures
Дата публикации: 2019
Библиографическое описание: Ляо Ц. Моделирование процесса формирования металлических покрытий при осаждении из газовой фазы : бакалаврская работа / Ц. Ляо ; Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ), Инженерная школа ядерных технологий (ИЯТШ), Отделение экспериментальной физики (ОЭФ) ; науч. рук. Н. В. Чистякова. — Томск, 2019.
Аннотация: Объектом исследований являлся процесс нанесения металлических покрытий на металлические подложки. Изучение влияния величины, направления скорости адатомов и температура подложки на шероховатость поверхности пленки с помощью молекулярной динамики.
The object of research was the process of applying metal coatings on metal substrates. Studying the influence of the magnitude, direction of the velocity of adatoms and the temperature of the substrate on the surface roughness of the film using molecular dynamics.
URI: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/53992
Располагается в коллекциях:Выпускные квалификационные работы (ВКР)

Файлы этого ресурса:
Файл Описание РазмерФормат 
TPU714159.pdf3,46 MBAdobe PDFПросмотреть/Открыть


Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.