Please use this identifier to cite or link to this item: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/62573
Title: Влияние магнетронного распыления меди на морфологию и химический состав поверхности ВДФ-ТеФЭ мембран
Other Titles: Influence of magnetron sputtering of copper on the morphology and chemical composition of vdf-TeFE membranes
Authors: Бадараев, Арсалан Доржиевич
metadata.dc.contributor.advisor: Твердохлебов, Сергей Иванович
Больбасов, Евгений Николаевич
Keywords: магнетронное распыление; медь; морфология; химический состав; поверхности; мембраны; химический состав
Issue Date: 2020
Publisher: Изд-во ТУСУР
Citation: Бадараев А. Д. Влияние магнетронного распыления меди на морфологию и химический состав поверхности ВДФ-ТеФЭ мембран / А. Д. Бадараев ; науч. рук. С. И. Твердохлебов, Е. Н. Больбасов // Перспективы развития фундаментальных наук : сборник научных трудов XVII Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 21-24 апреля 2020 г. : в 7 т. — Томск : Изд-во ТУСУР, 2020. — Т. 1 : Физика. — [С. 43-45].
Abstract: Membranes were formed by electrospinning method from vinylidene fluoride and tetrafluoroethylene copolymer. Membranes has a nonwoven structure and consists of fibers with diameter from 0,2 to 1,6 microns. After plasma treatment, the sample chemical composition surface changed significantly: the concentration of fluorine-containing components decreased by a factor of ~ 9, the modified membrane surface by ~ 28 % began to consist of copper-containing components.
URI: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/62573
Appears in Collections:Материалы конференций

Files in This Item:
File SizeFormat 
conference_tpu-2020-C21_V1_p43-45.pdf934,2 kBAdobe PDFView/Open


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.