Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс:
http://earchive.tpu.ru/handle/11683/70753| Название: | Effect of Al Addition on the Oxidation Resistance of HfC Thin Films |
| Авторы: | Gaydaychuk, Alexander Valerievich Linnik, Stepan Andreevich Mitulinsky, Aleksandr Sergeevich Zenkin, Sergey Petrovich |
| Ключевые слова: | окисление; магнетронное распыление; Hf–Al–C; oxidation resistanc; magnetron sputtering |
| Дата публикации: | 2022 |
| Издатель: | MDPI AG |
| Библиографическое описание: | Effect of Al Addition on the Oxidation Resistance of HfC Thin Films / A. V. Gaydaychuk, S. A. Linnik, A. S. Mitulinsky, S. P. Zenkin // Coatings. — 2022. — Vol. 12, iss. 1. — [27, 7 p.]. |
| Аннотация: | In this paper, we focus on the research of Al addition on Hf–Al–C film structure and oxidation resistance. It was found that obtained Hf–A–C films consist of a solid solution of Al in non-stoichiometric cubic HfC and have identical XRD patterns to bcc–HfC. Besides, the Al addition decreases the sample mass gain during oxidation in air at temperatures up to 800 °C. Mass gain for Hf–Al–C was 44.3 and 22.5% less, compared to pristine HfC, at 600 and 800 °C, respectively. |
| URI: | http://earchive.tpu.ru/handle/11683/70753 |
| Располагается в коллекциях: | Репринты научных публикаций |
Файлы этого ресурса:
| Файл | Описание | Размер | Формат | |
|---|---|---|---|---|
| reprint-nw-38399.pdf | 2,74 MB | Adobe PDF | Просмотреть/Открыть |
Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.