Влияние угла падения ионного пучка на распыление металлических мишеней

Abstract

Объект исследования – процесс ионного распыления. Цель работы – разработка лабораторного стенда для исследования зависимости угла падения пучка ионов на изделия из металлов. В результате работы разработан лабораторный стенд, позволяющий проводить эксперименты по определению коэффициента распыления металлических мишеней газовыми ионами. Рассмотрено влияние угла падения ионов рабочего газа на поверхность мишени, изготовленной из медного сплава М1. Получена зависимость коэффициента распыления от угла падения ионов.

The research object is the process of ion sputtering. The goal of the thesis is to develop a laboratory setup for studying the dependence of the ion beam incidence angle on metallic targets. As a result, a laboratory setup was developed that allows for conducting experiments to determine the sputtering coefficient of metal targets by gas ions. The influence of the incidence angle of the working gas ions on the surface of a target made of copper alloy M1 was considered, and the dependence of the sputtering coefficient on the incidence angle of ions was obtained.