Please use this identifier to cite or link to this item: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/80785
Title: Влияние параметров магнетроного осаждения на стехиометрию покрытий оксида меди, полученных в металлическом режиме
Authors: Воронина, Екатерина Дмитриевна
metadata.dc.contributor.advisor: Сиделёв, Дмитрий Владимирович
Keywords: полупроводники; p-n диоды; фотокатализаторы; стехиометрия; скорость осаждения покрытий; аргон; кислород
Issue Date: 2023
Publisher: Томский политехнический университет
Citation: Воронина, Е. Д. Влияние параметров магнетроного осаждения на стехиометрию покрытий оксида меди, полученных в металлическом режиме / Е. Д. Воронина ; науч. рук. Д. В. Сиделёв ; Инженерная школа ядерных технологий НИ ТПУ // Перспективы развития фундаментальных наук — Томск : Изд-во ТПУ, 2023. — Т. 1 : Физика. — С. 111-113.
Abstract: CuOx coatings were obtained by magnetron deposition using a metallic mode by changing an oxygen flow rate, target power density and rotation rate of planetary substrate-holder. It is shown the possibility of controlling the elemental and phase compositions of the CuOx coatings by changing operation parameters
URI: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/80785
Appears in Collections:Материалы конференций

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
conference_tpu-2023-C21_V1_p111-113.pdf697,13 kBAdobe PDFView/Open


This item is licensed under a Creative Commons License Creative Commons