Влияние ИМПА магнетронного диода свойства никелевых пленок

Целовальникова, А. Е.

Please use this identifier to cite or link to this item: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/55866

Title:	Влияние ИМПА магнетронного диода свойства никелевых пленок
Other Titles:	The role of magnetron diode type on the proporties of nikel films
Authors:	Целовальникова, А. Е.
metadata.dc.contributor.advisor:	Сиделёв, Дмитрий Владимирович
Keywords:	никель; пайка; керамические изделия; тонкие пленки; магнетронное распыление; металлизация; магнетронные диоды; адгезионные свойства
Issue Date:	2019
Publisher:	Изд-во ТПУ
Citation:	Целовальникова А. Е. Влияние ИМПА магнетронного диода свойства никелевых пленок / А. Е. Целовальникова ; науч. рук. Д. В. Сиделёв // Перспективы развития фундаментальных наук : сборник научных трудов XVI Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 23-26 апреля 2019 г. : в 7 т. — Томск : Изд-во ТПУ, 2019. — Т. 1 : Физика. — [С. 355-357].
Abstract:	Ni films were obtained by magnetron sputtering of cooled and hot targets. The elemental composition of as-deposited nickel films and after holding in atmosphere during 7 and 14 days was studied. There is shown that the resistance to cracking of Ni coatings deposited by hot target sputtering is higher just as peel adhesion of all samples is satisfactory.
URI:	http://earchive.tpu.ru/handle/11683/55866
Appears in Collections:	Материалы конференций

Files in This Item:

File	Description	Size	Format
conference_tpu-2019-C21_V1_p355-357.pdf		258,64 kB	Adobe PDF	View/Open

Show full item record