Please use this identifier to cite or link to this item:
http://earchive.tpu.ru/handle/11683/80798| Title: | Моделирование магнитной подсистемы планарного магнетрона |
| Authors: | Зайцев, Даниил Дмитриевич |
| metadata.dc.contributor.advisor: | Евдокимов, Кирилл Евгеньевич |
| Keywords: | магнетронные распылительные системы; МРС; тонкопленочные покрытия; плазма; математическая модель; магнитное поле; планарный магнетрон |
| Issue Date: | 2023 |
| Publisher: | Томский политехнический университет |
| Citation: | Зайцев, Д. Д. Моделирование магнитной подсистемы планарного магнетрона / Д. Д. Зайцев ; науч. рук. К. Е. Евдокимов ; Инженерная школа ядерных технологий НИ ТПУ // Перспективы развития фундаментальных наук — Томск : Изд-во ТПУ, 2023. — Т. 1 : Физика. — С. 168-170. |
| Abstract: | Magnetron sputtering systems are commonly used to change the functional properties of materials by applying thin-film coatings. In this work, we have simulated the magnetic field of the magnetic subsystem of a planar magnetron magnetron sputtering system in a 17 mm above target in increments of 1 cm by z-component using the Wolfram Mathematica 13.1 and Elcut. The dependence of the magnetic field on the distance from the target is provided and discussed. The simulation results, over a range of considered distances, are in good agreement with an experimental study. The developed module can be used for designing a magnetron system based on the created model |
| URI: | http://earchive.tpu.ru/handle/11683/80798 |
| Appears in Collections: | Материалы конференций |
Files in This Item:
| File | Description | Size | Format | |
|---|---|---|---|---|
| conference_tpu-2023-C21_V1_p168-170.pdf | 1,09 MB | Adobe PDF | View/Open |
This item is licensed under a Creative Commons License
