Please use this identifier to cite or link to this item: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/80818
Title: Адсорбция атома кремния на поверхностях (001) и (110) соединений TiN, TaN, AlN: расчеты из первых принципов
Authors: Огнев, Сергей Олегович
metadata.dc.contributor.advisor: Святкин, Леонид Александрович
Keywords: трение; износ; защитные покрытия; многокомпонентные покрытия; нанокристаллические покрытия; твердые растворы; электронная плотность; кремний
Issue Date: 2023
Publisher: Томский политехнический университет
Citation: Огнев, С. О. Адсорбция атома кремния на поверхностях (001) и (110) соединений TiN, TaN, AlN: расчеты из первых принципов / С. О. Огнев ; науч. рук. Л. А. Святкин ; Инженерная школа ядерных технологий НИ ТПУ // Перспективы развития фундаментальных наук — Томск : Изд-во ТПУ, 2023. — Т. 1 : Физика. — С. 282-284.
Abstract: We present the results of ab initio study of silicon atom adsorption on the (001) and (110) surfaces of TiN, TaN, AlN compounds with NaCl structure. All possible symmetric nonequivalent positions of the silicon atom on the surfaces under study are considered, and the binding energy for the silicon atom in these positions is calculated. The most energetically favorable positions for adsorption on the (001) and (110) surfaces under consideration have been established
URI: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/80818
Appears in Collections:Материалы конференций

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
conference_tpu-2023-C21_V1_p282-284.pdf744,45 kBAdobe PDFView/Open


This item is licensed under a Creative Commons License Creative Commons