Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс:
http://earchive.tpu.ru/handle/11683/132865Полная запись метаданных
| Поле DC | Значение | Язык |
|---|---|---|
| dc.contributor.advisor | Грудинин, Владислав Алексеевич | ru |
| dc.contributor.author | Фишер, М. Э. | ru |
| dc.contributor.author | Грудинин, Владислав Алексеевич | ru |
| dc.date.accessioned | 2025-10-29T04:38:50Z | - |
| dc.date.available | 2025-10-29T04:38:50Z | - |
| dc.date.issued | 2025 | - |
| dc.identifier.citation | Фишер, М. Э. Сравнительный анализ особенностей формирования состава плазмы при магнетронном распылении карбида кремния с использованием охлаждаемой и горячей мишеней / М. Э. Фишер, В. А. Грудинин ; науч. рук. В. А. Грудинин // Перспективы развития фундаментальных наук. — Томск : Изд-во ТПУ, 2025. — Т. 1 : Физика. — С. 263-265. | ru |
| dc.identifier.uri | http://earchive.tpu.ru/handle/11683/132865 | - |
| dc.description.abstract | In this work the influence of the target type on the peculiarities of plasma composition formation during magnetron sputtering of silicon carbide is considered. The plasma composition was determined by optical emission spectroscopy. It is revealed that at magnetron sputtering of hot target the intensity of plasma components increases | en |
| dc.format.mimetype | application/pdf | - |
| dc.language.iso | ru | en |
| dc.publisher | Томский политехнический университет | ru |
| dc.relation.ispartof | Перспективы развития фундаментальных наук. . Т. 1 : Физика | ru |
| dc.rights | info:eu-repo/semantics/openAccess | - |
| dc.rights | Attribution-NonCommercial 4.0 International | en |
| dc.rights.uri | https://creativecommons.org/licenses/by-nc/4.0/ | - |
| dc.subject | silicon carbide | en |
| dc.subject | magnetron sputtering | en |
| dc.subject | OES-analysis | en |
| dc.title | Сравнительный анализ особенностей формирования состава плазмы при магнетронном распылении карбида кремния с использованием охлаждаемой и горячей мишеней | ru |
| dc.title.alternative | Comparative analysis of features of plasma composition formation during magnetron sputtering of silicon carbide using cooled and hot targets | en |
| dc.type | Conference Paper | en |
| dc.type | info:eu-repo/semantics/conferencePaper | - |
| dc.type | info:eu-repo/semantics/publishedVersion | - |
| dcterms.audience | Researches | en |
| local.description.firstpage | 263 | - |
| local.description.lastpage | 265 | - |
| local.filepath | conference_tpu-2025-C21_V1_p263-265.pdf | - |
| local.identifier.bibrec | (RuTPU)682463 | - |
| local.localtype | Доклад | ru |
| local.volume | 1 | - |
| Располагается в коллекциях: | Материалы конференций | |
Файлы этого ресурса:
| Файл | Размер | Формат | |
|---|---|---|---|
| conference_tpu-2025-C21_V1_p263-265.pdf | 942,4 kB | Adobe PDF | Просмотреть/Открыть |
Лицензия на ресурс: Лицензия Creative Commons