Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс:
http://earchive.tpu.ru/handle/11683/41436Полная запись метаданных
| Поле DC | Значение | Язык |
|---|---|---|
| dc.contributor.advisor | Никитенков, Николай Николаевич | ru |
| dc.contributor.author | Инь Шаньшань | ru |
| dc.contributor.author | Павлов, Сергей Константинович | ru |
| dc.contributor.author | Ван Цайлунь | ru |
| dc.date.accessioned | 2017-07-17T22:02:33Z | - |
| dc.date.available | 2017-07-17T22:02:33Z | - |
| dc.date.issued | 2017 | - |
| dc.identifier.citation | Инь Шаньшань. Влияние подслоя углерода и титана на электрофизические характеристики пленки нитрида алюминия на кремнии / Инь Шаньшань, С. К. Павлов, Ван Цайлунь ; науч. рук. Н. Н. Никитенков // Перспективы развития фундаментальных наук : сборник научных трудов XIV Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 25-28 апреля 2017 г. : в 7 т. — Томск : Изд-во ТПУ, 2017. — Т. 1 : Физика. — [С. 141-143]. | ru |
| dc.identifier.uri | http://earchive.tpu.ru/handle/11683/41436 | - |
| dc.description.abstract | The carbon (C) and titanium (Ti) ions were implanted onto the surface of the silicon (Si), and the thin films of aluminum nitride (AlN) were prepared on Si(100) substrate by magnetron sputtering after the implantations. The compositions of these thin film systems were studied by optical microscopy and Raman spectroscopy, and the surface conductivity of those samples were measured. It was indicated that the implanted C and Ti ions did have made a difference to the electro physical properties of the systems AlN/Si. | en |
| dc.language.iso | ru | en |
| dc.publisher | Изд-во ТПУ | ru |
| dc.relation.ispartof | Перспективы развития фундаментальных наук : сборник научных трудов XIV Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 25-28 апреля 2017 г. Т. 1 : Физика. — Томск, 2017. | ru |
| dc.rights | info:eu-repo/semantics/openAccess | en |
| dc.subject | водород | ru |
| dc.subject | полупроводники | ru |
| dc.subject | нитриды | ru |
| dc.subject | детектирование | ru |
| dc.subject | ультрафиолетовое излучение | ru |
| dc.title | Влияние подслоя углерода и титана на электрофизические характеристики пленки нитрида алюминия на кремнии | ru |
| dc.title.alternative | Influence of the carbon and the titanium sublayers on the eletrophysical preporties of the thin film system ALN/SI | en |
| dc.type | Conference Paper | en |
| dc.type | info:eu-repo/semantics/publishedVersion | en |
| dc.type | info:eu-repo/semantics/conferencePaper | en |
| dcterms.audience | Researches | en |
| local.department | Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ)::Институт физики высоких технологий (ИФВТ)::Лаборатория № 1 | ru |
| local.department | Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ)::Физико-технический институт (ФТИ)::Кафедра общей физики (ОФ) | ru |
| local.description.firstpage | 141 | - |
| local.description.lastpage | 143 | - |
| local.filepath | conference_tpu-2017-C21_V1_p141-143.pdf | - |
| local.identifier.bibrec | RU\TPU\conf\21468 | - |
| local.identifier.colkey | RU\TPU\col\19035 | - |
| local.identifier.colkey | RU\TPU\col\18734 | - |
| local.identifier.perskey | RU\TPU\pers\32608 | - |
| local.localtype | Доклад | ru |
| local.volume | 1 | - |
| local.conference.name | Перспективы развития фундаментальных наук | - |
| local.conference.date | 2017 | - |
| Располагается в коллекциях: | Материалы конференций | |
Файлы этого ресурса:
| Файл | Описание | Размер | Формат | |
|---|---|---|---|---|
| conference_tpu-2017-C21_V1_p141-143.pdf | 310,84 kB | Adobe PDF | Просмотреть/Открыть |
Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.