Особенности формирования кальций-фосфатных покрытий методом ВЧ-магнетронного распыления в условиях падения паров осаждаемого материала под скользящим углом к подложке

Abstract

Цель работы - исследовать особенности формирования кальций-фосфатных покрытий методом ВЧ-магнетронного распыления в условиях падения паров осаждаемого материала под скользящим углом к подложке. Объектом исследования являются кальцийфосфатные покрытия, полученные на подложках технически чистого крупнокристаллического и ультрамелкозернистого титана марки ВТ1-0, а также на подложках монокристаллического кремния (100). Экспериментальные результаты показали влияние угла наклона подложки, мощности, и давления на толщину, оптические характеристики, морфологию, топографию и фазовый состав покрытий.

The aim of this work is to investigate the features of formation of calcium-phosphate coatings by the method of radio-frequency magnetron sputtering under the conditions of falling vapor of the deposited material under a glancing angle to the substrate. The object of the study are calcium phosphate coatings obtained on substrates of technically pure macrocrystalline and ultrafine-grained titanium of VT1-0 grade, and single-crystal silicon (100) substrates. The experimental results showed the influence of the substrate inclination angle, power, and pressure on the thickness, optical characteristics, morphology, topography and phase composition of the coatings