Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/57378
Название: Operation parameters of magnetron diode for high-rate deposition of aluminum films
Авторы: Sidelev, Dmitry Vladimirovich
Grudinin, Vladislav Alekseevich
Ключевые слова: магнетронный разряд; плазма; осаждение; алюминиевые пленки
Дата публикации: 2018
Издатель: IOP Publishing
Библиографическое описание: Sidelev D. V. Operation parameters of magnetron diode for high-rate deposition of aluminum films / D. V. Sidelev, V. A. Grudinin // Journal of Physics: Conference Series. — 2018. — Vol. 1115 : 6th International Congress "Energy Fluxes and Radiation Effects"14th International Conference on Modification of Materials with Particle Beams and Plasma Flows (14th CMM) : [proceedings], 16-22 September 2018, Tomsk, Russian Federation. — [032020, 5 p.].
Аннотация: This article reports on the results of the detailed study of erosion of Al target in magnetron discharge plasma. It was demonstrated that the combination of middle-frequency (MF) and high impulse power (HiPIMS) power supply results in the significant increase of deposition rates of Al films by changing of sputtering yield. The MF pulse assists HiPIMS discharge to transit in a high power mode.
URI: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/57378
Располагается в коллекциях:Материалы конференций

Файлы этого ресурса:
Файл Описание РазмерФормат 
conf-nw-28938.pdf847,82 kBAdobe PDFПросмотреть/Открыть


Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.