Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/68305
Полная запись метаданных
Поле DCЗначениеЯзык
dc.contributor.advisorСурменева, Мария Александровнаru
dc.contributor.authorПавельева, Александра Андреевнаru
dc.contributor.authorХрапов, Дмитрийru
dc.contributor.authorКозадаева, М. П.ru
dc.date.accessioned2021-09-02T07:06:28Z-
dc.date.available2021-09-02T07:06:28Z-
dc.date.issued2021-
dc.identifier.citationПавельева, А. А. Химическое травление как метод постобработки 3D ячеистых структур, полученных электронно-лучевой наплавкой: ограничения и сложности / А. А. Павельева, Д. Храпов, М. П. Козадаева ; науч. рук. М. А. Сурменева // Перспективы развития фундаментальных наук : сборник научных трудов XVIII Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 27-30 апреля 2021 г. : в 7 т. — Томск : Изд-во ТПУ, 2021. — Т. 2 : Химия. — [С. 193-195].ru
dc.identifier.urihttp://earchive.tpu.ru/handle/11683/68305-
dc.description.abstractChemical etching is a promising method for post-surface treatment and the removal of residual powder from implants obtained using electron beam cladding. Partially sintered powder particles that remained on the implants surface can be difficult to remove from the internal structure of the additively manufactured specimens. In order to remove residual powder from scaffolds' interior, an aqueous solution of HF and HNO3 acids was used. Multiple immersion was more effective to remove the remaining powder, which was explained from the chemical point of view. The influence of the chemical etching on mechanical properties, mechanical behavior, fracture modes, and morphology was investigated.en
dc.format.mimetypeapplication/pdf-
dc.language.isoruen
dc.publisherТомский политехнический университетru
dc.relationinfo:eu-repo/grantAgreement/RSF//20-73-10223-
dc.relation.ispartofПерспективы развития фундаментальных наук : сборник научных трудов XVIII Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 27-30 апреля 2021 г. Т. 2 : Химия. — Томск, 2021ru
dc.rightsinfo:eu-repo/semantics/openAccess-
dc.rightsAttribution-NonCommercial 4.0 Internationalen
dc.rights.urihttps://creativecommons.org/licenses/by-nc/4.0/-
dc.subjectхимическое травлениеru
dc.subjectпереработкаru
dc.subjectэлектронно-лучевая наплавкаru
dc.subjectтитановые сплавыru
dc.subjectпорошкиru
dc.subjectповерхностные слоиru
dc.subject3Den
dc.titleХимическое травление как метод постобработки 3D ячеистых структур, полученных электронно-лучевой наплавкой: ограничения и сложностиru
dc.title.alternativeThe chemical etching as a method for post-processing of 3D cellular structures obtained by electron-beam melting: limitations and difficultiesen
dc.typeConference Paperen
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/conferencePaper-
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/publishedVersion-
dcterms.audienceResearchesen
local.description.firstpage193-
local.description.lastpage195-
local.filepathconference_tpu-2021-C21_V2_p193-195.pdf-
local.identifier.bibrecRU\TPU\conf\35098-
local.identifier.perskeyRU\TPU\pers\46661-
local.identifier.perskeyRU\TPU\pers\43118-
local.localtypeДокладru
local.volume2-
local.conference.nameПерспективы развития фундаментальных наукru
local.conference.date2021-
Располагается в коллекциях:Материалы конференций

Файлы этого ресурса:
Файл Описание РазмерФормат 
conference_tpu-2021-C21_V2_p193-195.pdf234,67 kBAdobe PDFПросмотреть/Открыть


Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.