Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс:
http://earchive.tpu.ru/handle/11683/72900| Название: | Осаждение плёнок оксида меди при магнетронном распылении в металлическом режиме |
| Другие названия: | Film deposition of copper oxide using magnetron sputtering in a metallic mode |
| Авторы: | Воронина, Е. Д. Сиделёв, Дмитрий Владимирович |
| Научный руководитель: | Сиделёв, Дмитрий Владимирович |
| Ключевые слова: | осаждение; пленки; оксид меди; магнетронное распыление; оксиды металлов; металлические режимы |
| Дата публикации: | 2022 |
| Издатель: | Томский политехнический университет |
| Библиографическое описание: | Воронина, Е. Д. Осаждение плёнок оксида меди при магнетронном распылении в металлическом режиме / Е. Д. Воронина, Д. В. Сиделёв ; науч. рук. Д. В. Сиделёв // Перспективы развития фундаментальных наук : сборник научных трудов XIX Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 26-29 апреля 2022 г. : в 7 т. — Томск : Изд-во ТПУ, 2022. — Т. 1 : Физика. — [С. 50-52]. |
| Аннотация: | This article describes the possibility of film deposition of copper oxide using magnetron sputtering in Ar+O2 operating in a metallic mode. To do this, hysteresis of discharge voltage was obtained at constant (20 sccm) Ar and variable (100 sccm) O2 gas flows, with and without using additional radio-frequency plasma source RPG-128. Then, CuOx films were obtained in metallic modes of magnetron sputtering of copper target at a discharge power of 1000 and 2000 W. These films were investigated by X-ray diffraction to determine its crystal structure. |
| URI: | http://earchive.tpu.ru/handle/11683/72900 |
| Располагается в коллекциях: | Материалы конференций |
Файлы этого ресурса:
| Файл | Описание | Размер | Формат | |
|---|---|---|---|---|
| conference_tpu-2022-C21_V1_p50-52.pdf | 368,45 kB | Adobe PDF | Просмотреть/Открыть |
Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.