Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/132814
Название: Влияние распределения валентной электронной плотности в плёнке Cr/Zr на характер связи водород-металл
Другие названия: Influence of valence electron density distribution in Cr/Zr thin film on hydrogen-metal bonding
Авторы: Врублевский, Д. Б.
Научный руководитель: Святкин, Леонид Александрович
Ключевые слова: zirconium; chromium; hydrogen; first-principal calculation; Bader charge analysis
Дата публикации: 2025
Издатель: Томский политехнический университет
Библиографическое описание: Врублевский, Д. Б. Влияние распределения валентной электронной плотности в плёнке Cr/Zr на характер связи водород-металл / Д. Б. Врублевский ; науч. рук. Л. А. Святкин // Перспективы развития фундаментальных наук. — Томск : Изд-во ТПУ, 2025. — Т. 1 : Физика. — С. 65-67.
Аннотация: We performed an ab initio study of the interaction of hydrogen atoms with the Cr surface and the Cr/Zr interface. The valence electron density distribution was obtained by the pseudopotential method performed in ABINIT package. The presence of negatively charged Cr atomic layers on Cr surface and at Cr/Zr interface, as well as positively charged Zr atomic layers at Cr/Zr interface, was shown based on the results of Bader charge analysis; the presence of the electrical dipole moment is also noticed. It is found, that the hydrogen-metal bonds at Cr/Zr interface a have high degree of bond iconicity and the hydrogen-metal bonds on Cr surface have a high degree of bond covalency
URI: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/132814
Располагается в коллекциях:Материалы конференций

Файлы этого ресурса:
Файл РазмерФормат 
conference_tpu-2025-C21_V1_p65-67.pdf630,15 kBAdobe PDFПросмотреть/Открыть


Лицензия на ресурс: Лицензия Creative Commons Creative Commons