Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/19128
Название: Осаждение барьерных слоев на основе нитрида титана с помощью дуальной МРС
Авторы: Киселева, Д. В.
Михневич, К. С.
Юрьев, Юрий Николаевич
Научный руководитель: Юрьев, Юрий Николаевич
Ключевые слова: осаждение; барьерные слои; нитрид титана; магнетронные системы; магнетронные распылительные системы; пленки
Дата публикации: 2015
Библиографическое описание: Киселева Д. В. Осаждение барьерных слоев на основе нитрида титана с помощью дуальной МРС / Д. В. Киселева, К. С. Михневич, Ю. Н. Юрьев ; науч. рук. Ю. Н. Юрьев // Перспективы развития фундаментальных наук : сборник научных трудов XII Международной конференция студентов и молодых ученых, г. Томск, 21-24 апреля 2015 г. — Томск : Изд-во ТПУ, 2015. — [С. 125-127].
Аннотация: The titanium nitride (TiN) thin films of polycrystalline structure (110), (200) and (220) with elasticmodulus 153.2…395.7 GPa were obtained by means of magnetron sputtering of titanium cathode in argon andnitrogen. The electrical resistance of the samples is in the range of 0.15 ... 1.24 m[omega]·cm. The effects of phasecomposition, microstructure, morphology and physical-mechanical properties of TiN on d[s-t] and N[2] flow rate arepresented.
URI: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/19128
Располагается в коллекциях:Материалы конференций

Файлы этого ресурса:
Файл РазмерФормат 
conference_tpu-2015-C21-032.pdf201,21 kBAdobe PDFПросмотреть/Открыть


Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.