Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/25825
Название: Осаждение металлических покрытий с помощью магнетронной распылительной системы с жидкофазной мишенью
Другие названия: The metall films deposition by using of the magnetron sputterihg system with the liquid-phase target
Авторы: Рогожников, Д. С.
Юрьева, Алена Викторовна
Шабунин, Артём Сергеевич
Научный руководитель: Юрьева, Алена Викторовна
Ключевые слова: металлические покрытия; магнетронные распылительные системы; жидкофазные мишени; магнетронное распыление; осаждение
Дата публикации: 2016
Издатель: Изд-во ТПУ
Библиографическое описание: Рогожников Д. С. Осаждение металлических покрытий с помощью магнетронной распылительной системы с жидкофазной мишенью / Д. С. Рогожников, А. В. Юрьева, А. С. Шабунин ; науч. рук. А. В. Юрьева // Перспективы развития фундаментальных наук : сборник научных трудов XIII Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 26-29 апреля 2016 г. : в 7 т. — Томск : Изд-во ТПУ, 2016. — Т. 1 : Физика. — [С. 253-255].
Аннотация: The paper presents a review of original investigations on magnetron sputtering systems with liquidphase target. The basic feature of such technique is a generation of liquid phase in solid state target. It providesto form a magnetron discharge on target vapor. For this reason, magnetron sputtering systems with liquid targetis used to deposition of thick metal films (10…100 μm) with high deposition rate (10…100 nm per second). Generally, it makes to increase of coatings quality, functional properties.
URI: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/25825
Располагается в коллекциях:Материалы конференций

Файлы этого ресурса:
Файл РазмерФормат 
conference_tpu-2016-C21_V1_p253-255.pdf292,43 kBAdobe PDFПросмотреть/Открыть


Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.