Please use this identifier to cite or link to this item: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/25825
Title: Осаждение металлических покрытий с помощью магнетронной распылительной системы с жидкофазной мишенью
Other Titles: The metall films deposition by using of the magnetron sputterihg system with the liquid-phase target
Authors: Рогожников, Д. С.
Юрьева, Алена Викторовна
Шабунин, Артём Сергеевич
metadata.dc.contributor.advisor: Юрьева, Алена Викторовна
Keywords: металлические покрытия; магнетронные распылительные системы; жидкофазные мишени; магнетронное распыление; осаждение
Issue Date: 2016
Publisher: Изд-во ТПУ
Citation: Рогожников Д. С. Осаждение металлических покрытий с помощью магнетронной распылительной системы с жидкофазной мишенью / Д. С. Рогожников, А. В. Юрьева, А. С. Шабунин ; науч. рук. А. В. Юрьева // Перспективы развития фундаментальных наук : сборник научных трудов XIII Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 26-29 апреля 2016 г. : в 7 т. — Томск : Изд-во ТПУ, 2016. — Т. 1 : Физика. — [С. 253-255].
Abstract: The paper presents a review of original investigations on magnetron sputtering systems with liquidphase target. The basic feature of such technique is a generation of liquid phase in solid state target. It providesto form a magnetron discharge on target vapor. For this reason, magnetron sputtering systems with liquid targetis used to deposition of thick metal films (10…100 μm) with high deposition rate (10…100 nm per second). Generally, it makes to increase of coatings quality, functional properties.
URI: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/25825
Appears in Collections:Материалы конференций

Files in This Item:
File SizeFormat 
conference_tpu-2016-C21_V1_p253-255.pdf292,43 kBAdobe PDFView/Open


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.