Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/27282
Название: Напыление ультратонких пленок меди методом импульсного магнетронного напыления
Авторы: Оскирко, Алёна Викторовна
Научный руководитель: Соловьев, Андрей Александрович
Ключевые слова: магнетронная распылительная система; сильноточное импульсное магнетронное распыление; ультратонкие пленки; разряд; плазма; Magnetron-Zerstäubungssystem; Intense Pulsed Magnetron-Sputtern; ultra-dünnen Filmen; Kupfer; Plasma
Дата публикации: 2016
Библиографическое описание: Оскирко А. В. Напыление ультратонких пленок меди методом импульсного магнетронного напыления : дипломный проект / А. В. Оскирко ; Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ), Институт физики высоких технологий (ИФВТ), Кафедра высоковольтной электрофизики и сильноточной электроники (ВЭСЭ) ; науч. рук. А. А. Соловьев. — Томск, 2016.
Аннотация: РЕФЕРАТ Выпускная квалификационная работа 111 с., 32 рис., 19 табл., __57____источников, 1 прил. Ключевые слова: магнетронная распылительная система, сильноточное импульсное магнетронное распыление, ультратонкие пленки. Объектом исследования является сильноточный импульсный магнетронный разряд и полученные с его помощью ультратонкие пленки меди (толщиной от 5 до 20 нм). Цель работы – исследование влияня параметров сильноточного импульсного магнетронного распыления на структуру, свойства и итоговые эксплуатационные характеристики ультратонких пленок меди. В процессе исследования проводились - экспериментальное исследование параметров сильноточного импульсного магнетронного разряда. В процессе экспериментов были получены образцы ультратонких пленок, толщиной от 5 до 20 нм.
Einführung Das Thema der vorliegenden Arbeit ist high-field emission arc zur Erzeugung von amorphen Kohlenwasserstoffschichten. Künstlich erzeugte Plasmen werden in neuerer Zeit immer häufiger in der sogenannten Plasmatechnologie genutzt, um technisch sehr hochwertige Artikel, aber auch Gegenstände des täglichen Lebens herzustellen. Die Plasmatechnologie gehört dabei eher zu den unauffälligen Technologien, da ihr Einsatz oft nicht auf den ersten Blick zu erkennen ist.
URI: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/27282
Располагается в коллекциях:ВКР

Файлы этого ресурса:
Файл РазмерФормат 
TPU172720.pdf1,45 MBAdobe PDFПросмотреть/Открыть


Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.