Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/34846
Название: Deposition of the low resistive ITO-films by means of reactive magnetron sputtering of the In/Sn target on the cold substrate
Авторы: Zhidik, Y. S.
Troyan, P. E.
Baturina, E. V.
Korzhenko, Dmitry Vladimirovich
Yuriev, Yuri Nikolaevich
Ключевые слова: сопротивление; пленки; реактивное распыление; магнетронное распыление; мишени; подложки; осаждение; полупроводниковые приборы; оптоэлектроника
Дата публикации: 2016
Издатель: IOP Publishing
Библиографическое описание: Deposition of the low resistive ITO-films by means of reactive magnetron sputtering of the In/Sn target on the cold substrate / Y. S. Zhidik [et al.] // IOP Conference Series: Materials Science and Engineering. — 2016. — Vol. 135 : Issues of Physics and Technology in Science, Industry and Medicine : VIII International Scientific Conference, 1–3 June 2016, Tomsk, Russia : [proceedings]. — [012055, 5 p.].
Аннотация: Detailed information on the deposition technology of the low-resistive ITO-films in oxygen-containing media by magnetron reactive sputtering from the In(90%)/Sn(10%) target on the cold substrate is given. Developed technology allows deposition ITO-films with sheet resistance transparency higher than 90%. Developed technology is notable for high reproducibility of results and is compatible with production technology of semiconductor devices of optoelectronics.
URI: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/34846
Располагается в коллекциях:Материалы конференций

Файлы этого ресурса:
Файл РазмерФормат 
dx.doi.org-10.1088-1757-899X-135-1-012055.pdf831,27 kBAdobe PDFПросмотреть/Открыть


Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.