Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс:
http://earchive.tpu.ru/handle/11683/34846| Название: | Deposition of the low resistive ITO-films by means of reactive magnetron sputtering of the In/Sn target on the cold substrate |
| Авторы: | Zhidik, Y. S. Troyan, P. E. Baturina, E. V. Korzhenko, Dmitry Vladimirovich Yuriev, Yuri Nikolaevich |
| Ключевые слова: | сопротивление; пленки; реактивное распыление; магнетронное распыление; мишени; подложки; осаждение; полупроводниковые приборы; оптоэлектроника |
| Дата публикации: | 2016 |
| Издатель: | IOP Publishing |
| Библиографическое описание: | Deposition of the low resistive ITO-films by means of reactive magnetron sputtering of the In/Sn target on the cold substrate / Y. S. Zhidik [et al.] // IOP Conference Series: Materials Science and Engineering. — 2016. — Vol. 135 : Issues of Physics and Technology in Science, Industry and Medicine : VIII International Scientific Conference, 1–3 June 2016, Tomsk, Russia : [proceedings]. — [012055, 5 p.]. |
| Аннотация: | Detailed information on the deposition technology of the low-resistive ITO-films in oxygen-containing media by magnetron reactive sputtering from the In(90%)/Sn(10%) target on the cold substrate is given. Developed technology allows deposition ITO-films with sheet resistance transparency higher than 90%. Developed technology is notable for high reproducibility of results and is compatible with production technology of semiconductor devices of optoelectronics. |
| URI: | http://earchive.tpu.ru/handle/11683/34846 |
| Располагается в коллекциях: | Материалы конференций |
Файлы этого ресурса:
| Файл | Описание | Размер | Формат | |
|---|---|---|---|---|
| dx.doi.org-10.1088-1757-899X-135-1-012055.pdf | 831,27 kB | Adobe PDF | Просмотреть/Открыть |
Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.