Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/35867
Название: Highly selective deposition of CVD diamond on si wafers by using a combined technique of photolithography and ion etching
Авторы: Okhotnikov, Vitaly Vladimirovich
Linnik, Stepan Andreevich
Gaydaychuk, Alexander Valerievich
Ключевые слова: осаждение; алмазы; фотолитография; ионное травление; CVD diamond catings; glow discharge plasma; selective deposition; structure
Дата публикации: 2016
Библиографическое описание: Okhotnikov V. V. Highly selective deposition of CVD diamond on si wafers by using a combined technique of photolithography and ion etching / V. V. Okhotnikov, S. A. Linnik, A. V. Gaydaychuk // Energy Fluxes and Radiation Effects (EFRE-2016) : International Congress, October 2–7, 2016, Tomsk, Russia : abstracts. — Tomsk : TPU Publishing House, 2016. — [P. 351].
URI: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/35867
Располагается в коллекциях:Материалы конференций

Файлы этого ресурса:
Файл РазмерФормат 
conference_tpu-2016-C117_p352.pdf226,89 kBAdobe PDFПросмотреть/Открыть


Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.