Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс:
http://earchive.tpu.ru/handle/11683/38449Полная запись метаданных
| Поле DC | Значение | Язык |
|---|---|---|
| dc.contributor.advisor | Юрьев, Юрий Николаевич | ru |
| dc.contributor.author | Киселева, Дарья Васильевна | ru |
| dc.date.accessioned | 2017-05-24T09:22:33Z | - |
| dc.date.available | 2017-05-24T09:22:33Z | - |
| dc.date.issued | 2017 | - |
| dc.identifier.citation | Киселева Д. В. Формирование диэлектрических слоёв на основе нитрида кремния для тонкоплёночных МДМ-структур : магистерская диссертация / Д. В. Киселева ; Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ), Физико-технический институт (ФТИ), Кафедра экспериментальной физики (ЭФ) ; науч. рук. Ю. Н. Юрьев. — Томск, 2017. | - |
| dc.identifier.uri | http://earchive.tpu.ru/handle/11683/38449 | - |
| dc.description.abstract | Предметом научной работы является исследование процессов формирования плёнок нитрида кремния с высокими диэлектрическими свойствами в зависимости от режимов осаждения и параметров источника питания магнетронной распылительной системы (МРС) для тонкоплёночных МДМ-конденсаторов интегральных микросхем. | ru |
| dc.description.abstract | The subject of scientific work presents the original research of formation process of silicon nitride films with high dielectric properties depending on deposition conditions (ratio of gas flow rates and magnetron power supply parameters). Silicon nitride films are dielectric layer in MDM (metal-dielectric-metal)-capacitors of integrated microcircuits in microelectronics. | en |
| dc.format.mimetype | application/pdf | - |
| dc.language.iso | ru | en |
| dc.rights | info:eu-repo/semantics/openAccess | - |
| dc.subject | планарные магнетроны | ru |
| dc.subject | нитрид кремния | ru |
| dc.subject | тонкие плёнки | ru |
| dc.subject | диэлектрические плёнки | ru |
| dc.subject | МДМ-структуры | ru |
| dc.subject | planar magnetron | en |
| dc.subject | silicon nitride | en |
| dc.subject | thin films | en |
| dc.subject | dielectric films | en |
| dc.subject | MDM-strusture | en |
| dc.title | Формирование диэлектрических слоёв на основе нитрида кремния для тонкоплёночных МДМ-структур | ru |
| dc.type | Students work | - |
| local.department | Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ): Физико-технический институт (ФТИ): Кафедра экспериментальной физики (ЭФ) | - |
| local.institut | 6270 | - |
| local.localtype | Студенческая работа | - |
| dc.subject.oksvnk | 16.04.01 | - |
| local.thesis.level | Магистр | ru |
| local.thesis.discipline | Техническая физика | - |
| local.local-vkr-id | 189592 | - |
| local.vkr-id | 22877 | - |
| local.stud-group | 0ДМ51 | - |
| local.lichnost-id | 152575 | - |
| local.thesis.level-id | 3 | - |
| local.tutor-lichnost-id | 123093 | - |
| dc.subject.udc | 539.216.2:661.5 | - |
| Располагается в коллекциях: | Магистерские диссертации | |
Файлы этого ресурса:
| Файл | Описание | Размер | Формат | |
|---|---|---|---|---|
| TPU349570.pdf | 2,19 MB | Adobe PDF | Просмотреть/Открыть |
Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.