Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс:
http://earchive.tpu.ru/handle/11683/496| Название: | Распыление мишени при ассистировании магнетронного разряда ионным пучком |
| Авторы: | Жуков, Владислав Вячеславович Кривобоков, Валерий Павлович Янин, С. Н. |
| Ключевые слова: | распыление; мишени; ассистирование; магнетронный разряд; ионные пучки; проблемы; управление; параметры; условия; ускоренные ионы; скорость; осаждение; покрытия; материалы; постоянный ток; химические соединения; удаление; продукты; химические реакции; поверхность; распылительные системы; магнетронные диоды; ионные источники; дрейф; электроны; электрофизические параметры; технологические параметры; мощность; парциальное давление; реактивные газы; газовые смеси; подача; оксидные пленки |
| Дата публикации: | 2004 |
| Издатель: | Томский политехнический университет |
| Библиографическое описание: | Жуков В. В. Распыление мишени при ассистировании магнетронного разряда ионным пучком / В. В. Жуков, В. П. Кривобоков, С. Н. Янин // Известия Томского политехнического университета [Известия ТПУ]. — 2004. — Т. 307, № 7. — [С. 40-45]. |
| Аннотация: | Рассмотрена проблема управления параметрами магнетронного разряда в условиях его ассистирования пучком ускоренных ионов. Сделана попытка устранить ограничения в скорости осаждения покрытий при реактивном магнетронном распылении материалов на постоянном токе, вызванных образованием химических соединений на мишени. Предложен способ эффективного удаления продуктов химических реакций с поверхности распыляемого материала, основанный на ионном ассистировании магнетронного разряда внешним пучком ускоренных ионов. Рассмотрена комбинированная распылительная система магнетронного диода и ионного источника с замкнутым дрейфом электронов. Изучены ее основные электрофизические и технологические параметры. Показано, что при соблюдении определенных условий (мощность, парциальное давление реактивного газа, скорость подачи рабочей газовой смеси и др.) удается достичь значительного увеличения скорости осаждения оксидных пленок. |
| URI: | http://earchive.tpu.ru/handle/11683/496 |
| Располагается в коллекциях: | Известия Томского политехнического университета. Инжиниринг георесурсов |
Файлы этого ресурса:
| Файл | Описание | Размер | Формат | |
|---|---|---|---|---|
| bulletin_tpu-2004-307-7-09.pdf | 315,25 kB | Adobe PDF | Просмотреть/Открыть |
Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.